[发明专利]用于厚膜成像的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，它包括在含水碱性显影剂中不溶但在显影之前变得可溶的聚合物，一旦辐照则产生强酸的光致产酸剂和在与光致产酸剂相同的辐射线下吸收的可光漂白的染料。

2.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中可光漂白的染料具有与光致产酸剂相类似或比其低速的光漂白。

3.权利要求1或2的光致抗蚀剂组合物，其中聚合物是用酸不稳定基团保护的含水碱性可溶聚合物。

4.权利要求1-3任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中聚合物包括衍生于下述单体的至少一种单元，所述单体选自羟基苯乙烯、用酸不稳定基团封端的丙烯酸酯、用酸不稳定基团封端的甲基丙烯酸酯、用酸不稳定基团封端的羟基苯乙烯、苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯及其混合物。

5.权利要求1-4任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中一旦辐照，光致产酸剂产生磺酸。

6.权利要求1-5任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中光致产酸剂选自锍盐、肟磺酸盐、三氯甲基三嗪、酰亚胺及其混合物。

7.权利要求1-6任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中可光漂白的染料是重氮萘醌。

8.权利要求7的光致抗蚀剂组合物，其中可光漂白的染料是2，1，5和/或2，1，4-重氮萘醌。

9.权利要求1-8任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中组合物进一步包括可溶可熔酚醛树脂。

10.权利要求1-9任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中组合物进一步包括碱。

11.权利要求1-10任何一项的光致抗蚀剂组合物，其中组合物进一步包括增塑剂。

12.使光致抗蚀剂成像的方法，该方法包括下述步骤：

a)在基底上形成权利要求1-11任何一项的光致抗蚀剂组合物的涂层；

b)用辐射线成像式曝光光致抗蚀剂涂层；

c)曝光后烘烤光致抗蚀剂涂层；

d)用含水碱性显影剂使光致抗蚀剂涂层显影，形成光致抗蚀剂结构。

13.权利要求12的方法，其中光致抗蚀剂涂层的膜厚大于2微米并小于200微米。

14.权利要求12或13的方法，其中一步曝光光致抗蚀剂涂层。

15.权利要求12-14任何一项的方法，其中用300nm-450nm的辐射线，使光致抗蚀剂成像。

16.权利要求12-15任何一项的方法，其中光致抗蚀剂的结构具有大于3的长宽比。

17.权利要求12-16任何一项的方法，其中光致抗蚀剂结构具有几乎垂直的侧壁。

18.权利要求12-17任何一项的方法，其中基底是铜或衍生自铜。

19.权利要求12-18任何一项的方法，其中显影剂是四甲基氢氧化铵的水溶液。

20.权利要求1-11任何一项的组合物作为光致抗蚀剂的用途。