[发明专利]固化性组合物、固化膜及层叠体

说明书

技术领域

本发明涉及具有硬涂性的固化性组合物、使用该组合物的固化膜及其层叠体。

背景技术

以往从确保信息通信设备的性能和应对安全的角度考虑，在设备的表面使用光固化性组合物形成具有耐擦伤性、密合性、高折射率性等的硬涂性涂膜、抗静电性涂膜。

近年来信息通信设备显著地发展并且广泛应用，要求进一步提高硬涂性涂膜、抗静电性涂膜等的性能及生产率，提出了采用光固化性材料的各种方案。

例如可以列举如下所述的技术方案(参照专利文献1～3)。在专利文献1中公开了使用球磨机等在有机溶剂中混合氧化锡等导电性粉末和多种单体成分来制作导电性涂料的方法。在专利文献2中公开了使用球磨机在有机溶剂中混合掺锑氧化锡和具有紫外线固化性的硅烷偶联剂来制作导电性涂料用分散体的方法。进而，在专利文献3中公开了在易分散性低沸点溶剂和难分散性高沸点溶剂的混合溶剂中分散导电性氧化物微粉末来制作导电性涂料的方法。

(专利文献1)特开平04-172634号公报

(专利文献2)特开平06-264009号公报

(专利文献3)特开2001-131485号公报

发明内容

但是，通过上述方法即使可以制作在高折射率性、硬涂性、抗静电性、耐光性等方面同时具有良好物性的固化性组合物，相对于有机溶剂等疏水性高的介质，也不能以一次粒子水平稳定地分散平均一次粒径为100nm以下的金属氧化物并使其稳定化，从而在涂膜的透明性、光固化性涂料的经时稳定性等方面容易产生问题。

因此，本发明的目的在于提供一种固化性组合物、使用该组合物的固化膜及其层叠体，所述固化性组合物含有平均一次粒径为100nm以下的金属氧化物，并且，能够形成在高折射率性、抗静电性、硬涂性、透明性及耐光性的所有方面均具有优异物性的涂膜，具有经时稳定性。

本发明涉及一种固化性组合物，包含平均一次粒径为5～100nm的金属氧化物以及含氨基光固化性化合物，所述含氨基光固化性化合物具有乙烯性不饱和双键与伯胺或仲胺反应后的官能团和未反应的乙烯性不饱和双键。

所述含氨基光固化性化合物的乙烯性不饱和双键优选为源自丙烯酸酯基或甲基丙烯酸酯基的双键。进而，所述含氨基光固化性化合物优选为光固化后的铅笔硬度为H以上的丙烯酸酯化合物或甲基丙烯酸酯化合物与伯胺或仲胺反应而形成的化合物。

另外，本发明涉及固化上述固化性组合物而形成的固化膜。

另外，本发明涉及包含基材和上述固化膜的层叠体。

另外，本发明涉及包含上述固化性组合物的光半导体元件密封材料。

进而，本发明还涉及一种固化膜的制造方法，包括：向基材涂布上述固化性组合物，以及照射活性能量射线而使固化性组合物固化。

具体实施方式

本发明的固化性组合物含有含氨基光固化性化合物，所述含氨基光固化性化合物具有乙烯性不饱和双键与伯胺或仲胺反应后的官能团和未反应的乙烯性不饱和双键，由于其可以良好地发挥作为分散剂的功能，能够提高平均一次粒径为5～100nm的金属氧化物的分散性。其结果是，本发明的固化性组合物的固化性优异，可以形成抗静电性、硬涂性、透明性、耐光性、高折射率性优异的固化膜及其层叠体。从而，特别适宜用于塑料光学部件、光盘、防反射膜、触摸屏、薄膜型液晶元件，此外还可以适宜用作各种塑料层叠体的硬涂剂。

该固化性组合物可以形成折射率高的固化膜，将其涂布到折射率相同程度的基材上时，得到的层叠体不会产生反射干涉条纹，适宜用于光学用途。进而，由于可以将含有金属氧化物的固化物的折射率控制为较高，因此也适宜作为光半导体元件密封材料。

首先，针对本发明的固化性组合物进行说明。

该固化性组合物至少包含平均一次粒径为5～100nm的金属氧化物以及含氨基光固化性化合物，所述含氨基光固化性化合物具有乙烯性不饱和双键与伯胺或仲胺反应后的官能团和未反应的乙烯性不饱和双键，也可以分别含有2种以上的金属氧化物和2种以上的含氨基光固化性化合物。

金属氧化物是平均一次粒径为5～100nm的金属氧化物。金属氧化物的平均一次粒径可以通过使用例如透过型电子显微镜(TEM)或扫描型电子显微镜(SEM)等直接观察粒子本身来测定。