[发明专利]通过基于氢的等离子体进行处理的材料净化有效
| 申请号： | 200680026070.8 | 申请日： | 2006-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN101222968B | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | A·阿列克谢耶瓦;K·科夫尼尔;P·奇若夫;M·拜廷格尔;Y·格林 | 申请（专利权）人： | 马普科技促进协会 |
| 主分类号： | B01D53/32 | 分类号： | B01D53/32;C01B35/02;B01D53/46 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 通过 基于 等离子体 进行 处理 材料 净化 | ||
1.用于从材料中除去氧的净化方法，其特征在于使用基于氢的等离子体处 理含氧杂质的材料，并且特征在于所述等离子体处理在700℃到1500℃的温度下 进行。
2.根据权利要求1的方法，其特征在于在氧吸收剂的存在下去除氧。
3.根据权利要求1的方法，其特征在于使用钛作为氧吸收剂。
4.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于有待净化的材料选 自非金属元素或金属。
5.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于从硼中除去氧。
6.根据权利要求5的方法，其特征在于从非晶态硼中除去氧。
7.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于该有待净化的材料 以材料的总重量计，含氧杂质的量≥1重量％。
8.根据权利要求7的方法，其特征在于该有待净化的材料以材料的总重量 计，含氧杂质的量≥4重量％。
9.根据权利要求7的方法，其特征在于该有待净化的材料以材料的总重量 计，含氧杂质的量≥10重量％。
10.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于该氧杂质以氧化 物的形式存在。
11.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于该材料被净化到 以材料的总重量计，氧含量≤0.5重量％。
12.根据权利要求11的方法，其特征在于该材料被净化到以材料的总重量 计，氧含量≤0.1重量％。
13.根据权利要求11的方法，其特征在于该材料被净化到以材料的总重量 计，氧含量≤0.05重量％。
14.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于该基于氢的等离 子体包含≥5体积％的H2。
15.根据权利要求14的方法，其特征在于该基于氢的等离子体包含≥90 体积％的H2。
16.根据权利要求14的方法，其特征在于该基于氢的等离子体包含≥99 体积％的H2。
17.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于使用由H2和可选 的惰性气体组成的基于氢的等离子体。
18.根据权利要求17的方法，其特征在于所述惰性气体是氩气或氮气。
19.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于在该基于氢的等 离子体中的氧含量≤10ppm O2。
20.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于在该基于氢的等 离子体中的水含量≤10ppm。
21.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于执行使用基于氢 的等离子体的处理持续0.5到10h。
22.根据前述权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于使用微波诱导的 等离子体。
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