[发明专利]折射元件的清洁方法和用于近场光学系统的光学扫描设备无效
申请号: | 200680026419.8 | 申请日: | 2006-07-11 |
公开(公告)号: | CN101228579A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | C·A·弗舒伦 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/12 | 分类号: | G11B7/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李亚非;谭祐祥 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 折射 元件 清洁 方法 用于 近场 光学系统 光学 扫描 设备 | ||
1.一种清洁用于扫描光盘的近场光学扫描设备的折射元件的光学出射表面的方法,该方法包括:
-接触步骤,包括使折射元件和清洁垫机械接触,以使得折射元件的光学出射表面不平行于清洁垫的表面,该折射元件沿着接触边缘与表面垫接触;
-第一清洁步骤,至少包括清洁垫至少沿着清洁轴相对于折射元件的相对运动,其中清洁轴处在清洁垫的平面中并且与接触边缘基本垂直。
2.根据权利要求1的清洁方法,其特征在于沿着清洁轴选择相对运动的方向,使得接触边缘跟随该折射元件。
3.根据权利要求2的清洁方法,其特征在于该方法还包括在第一清洁步骤之前的第一旋转步骤,该第一旋转步骤包括在折射元件的平面中围绕旋转轴旋转折射元件。
4.根据权利要求3的清洁方法,其特征在于旋转轴平行于接触边缘。
5.根据权利要求4的清洁方法,其特征在于第一清洁步骤还包括沿着平行于接触边缘的轴的横向相对运动,优选地该相对运动沿着清洁轴并且同时执行该横向相对运动。
6.根据权利要求3、4或5的清洁方法,其特征在于还包括:
-第二旋转步骤,包括在与第一旋转步骤中的旋转方向相反的方向上围绕旋转轴旋转折射元件;
-第二清洁步骤,至少包括清洁垫至少在清洁方向上相对于折射元件的相对运动,该清洁方向沿着清洁轴使得接触边缘跟随该折射元件。
7.根据权利要求6的清洁方法,其特征在于重复第一旋转、第一清洁、第二旋转、第二清洁的步骤序列。
8.根据权利要求7的清洁方法,其特征在于在第一旋转、第一清洁、第二旋转、第二清洁的每一步骤序列之后,减小旋转折射元件的旋转角度。
9.根据权利要求7或8的清洁方法,其特征在于该清洁步骤还包括在平行于接触边缘的方向上的相对运动。
10.根据前述权利要求中任一的清洁方法,其特征在于选择接触边缘,使得它对应于当从光盘中读取信息时折射元件相对于光盘的切线运动方向。
11.根据权利要求7的清洁方法,其特征在于将对应于第一旋转、第一清洁、第二旋转、第二清洁的给定步骤序列的旋转轴选择为不同于其他序列的旋转轴。
12.根据前述权利要求中任一的清洁方法,其特征在于折射元件的旋转是通过用于在扫描光盘时提供透镜倾斜和聚焦控制的致动器来进行的。
13.根据前述权利要求中任一的清洁方法,其特征在于清洁垫具有基于棉花的表面。
14.根据前述权利要求中任一的清洁方法,其特征在于旋转角度在1至100毫弧度之间。
15.根据前述权利要求中任一的清洁方法,其特征在于折射元件是固体浸没透镜(SIL)。
16.一种用于扫描光盘的近场光学扫描设备,包括:
-前端单元,用于生成前向辐射束并检测反射的辐射束;
-光头,该光头包括用于朝向光盘透射前向辐射束并朝向前端单元透射从光盘反射的辐射束的折射元件;
-清洁垫;
-用于使折射元件和清洁垫处于机械接触的第一机械运动装置,以使得折射元件的光学出射表面不平行于清洁垫的表面,折射元件沿着接触边缘接触该清洁垫;
-用于至少沿清洁轴相对于折射元件相对地移动清洁垫的第二机械运动装置,其中该清洁轴处在清洁垫的平面中并且基本垂直于接触边缘。
17.根据权利要求16的近场光学扫描设备,其特征在于第二机械运动装置设置为沿着清洁轴在选择的方向上相对移动该清洁垫,该方向被选择为使得接触边缘跟随该折射元件。
18.根据权利要求17的近场光学扫描设备,其特征在于该第一机械运动装置设置为在折射元件的平面中在第一方向上围绕旋转轴旋转折射元件。
19.根据权利要求18的近场光学扫描设备,其特征在于旋转轴平行于接触边缘。
20.根据权利要求19的近场光学扫描设备,其特征在于该第二机械运动装置被进一步设置为用于沿着平行于接触边缘的轴横向移动该清洁垫,该第二机械运动装置被优选地设置为用于同时执行沿着清洁轴的相对运动和该横向相对运动。
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