[发明专利]二维四极离子阱有效
申请号: | 200680028082.4 | 申请日: | 2006-08-01 |
公开(公告)号: | CN101238545A | 公开(公告)日: | 2008-08-06 |
发明(设计)人: | 迈克尔·W·赛恩科;杰·C·施瓦兹 | 申请(专利权)人: | 塞莫费尼根股份有限公司 |
主分类号: | H01J49/42 | 分类号: | H01J49/42 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 颜涛;霍育栋 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二维 离子 | ||
1.一种线性离子阱,用于俘获并随后发射离子,包括:
限定内阱体的多根杆,该内阱体具有纵向延伸的轴,一根或多根杆包括径向延伸通过杆的孔,该孔配置为使得离子能够从内阱体通过该孔到达内阱体外部的区域;以及
在一根或多个杆中形成且在孔附近设置的至少一个槽,其沿着杆纵向延伸,朝内阱体开口,所述槽不在径向上延伸通过杆。
2.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该多根杆为多极杆,使其成形为在内阱体内提供实质四极电压。
3.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该槽直接连至孔。
4.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该至少一个槽为至少两个槽。
5.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该槽具有轴向延伸进入杆的深度,该深度大于该槽的宽度。
6.根据权利要求5的线性离子阱,其中:
该槽的深度至少为槽宽度的三倍。
7.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该孔以从内阱体至内阱体外部的区域的方向向外开口。
8.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该槽以从杆内向内阱体的方向向外开口。
9.根据权利要求1的线性离子阱,其中:
该孔为具有两端的长缝。
10.根据权利要求9的线性离子阱,其中:
该槽纵向延伸超过该缝的一端。
11.根据权利要求9的线性离子阱,其中:
该槽位于该缝两端的其中一端。
12.根据权利要求9的线性离子阱,其中:
该至少一个槽包括两个槽,该长缝的每端设置一个槽。
13.根据权利要求9的线性离子阱,其中:
长缝具有一个宽度,且槽的宽度实质上与该长缝的宽度相同。
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