[发明专利]二维四极离子阱有效

专利信息
申请号: 200680028082.4 申请日: 2006-08-01
公开(公告)号: CN101238545A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 迈克尔·W·赛恩科;杰·C·施瓦兹 申请(专利权)人: 塞莫费尼根股份有限公司
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 颜涛;霍育栋
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二维 离子
【权利要求书】:

1.一种线性离子阱,用于俘获并随后发射离子,包括:

限定内阱体的多根杆,该内阱体具有纵向延伸的轴,一根或多根杆包括径向延伸通过杆的孔,该孔配置为使得离子能够从内阱体通过该孔到达内阱体外部的区域;以及

在一根或多个杆中形成且在孔附近设置的至少一个槽,其沿着杆纵向延伸,朝内阱体开口,所述槽不在径向上延伸通过杆。

2.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该多根杆为多极杆,使其成形为在内阱体内提供实质四极电压。

3.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该槽直接连至孔。

4.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该至少一个槽为至少两个槽。

5.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该槽具有轴向延伸进入杆的深度,该深度大于该槽的宽度。

6.根据权利要求5的线性离子阱,其中:

该槽的深度至少为槽宽度的三倍。

7.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该孔以从内阱体至内阱体外部的区域的方向向外开口。

8.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该槽以从杆内向内阱体的方向向外开口。

9.根据权利要求1的线性离子阱,其中:

该孔为具有两端的长缝。

10.根据权利要求9的线性离子阱,其中:

该槽纵向延伸超过该缝的一端。

11.根据权利要求9的线性离子阱,其中:

该槽位于该缝两端的其中一端。

12.根据权利要求9的线性离子阱,其中:

该至少一个槽包括两个槽,该长缝的每端设置一个槽。

13.根据权利要求9的线性离子阱,其中:

长缝具有一个宽度,且槽的宽度实质上与该长缝的宽度相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于塞莫费尼根股份有限公司,未经塞莫费尼根股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680028082.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top