[发明专利]微光刻投影物镜有效
申请号: | 200680028253.3 | 申请日: | 2006-05-23 |
公开(公告)号: | CN101297243A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 海科·费尔德曼;丹尼尔·克雷默;让-克洛德·佩林;朱利安·卡勒;奥雷利安·多多克;弗拉基米尔·卡梅诺夫;奥拉夫·康拉迪;托拉夫·格鲁纳;托马斯·奥孔;亚历山大·埃普勒 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司股份公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孙志湧;陆锦华 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微光 投影 物镜 | ||
1.一种用于将布置在物平面的图案成像到像平面的微光刻投影物镜,包含多个光学元件,所述多个光学元件包括至少一个反射镜,其中,能够用于将所述图案成像到所述像平面的成像光路在所述至少一个反射镜的区域内具有相对彼此倾斜前进、在重叠区域内至少部分地彼此重叠并且在所述重叠区域外由间隙彼此间隔开的光路区段,在所述问隙内布置用于抑制虚光的至少一个遮蔽物,所述多个光学元件还包括用以形成折反射物镜的至少一个透镜。
2.如权利要求1所述的投影物镜,其中,所述至少一个遮蔽物被固定在所述第一反射镜上。
3.如权利要求1或2所述的投影物镜,其中,所述多个光学元件沿一光轴布置。
4.如权利要求1或2所述的投影物镜,还包括限定系统孔径并且具有光学有效截面的孔径光阑,其中,所述光学有效截面是可调整的。
5.如权利要求1或2所述的投影物镜,其中,所述多个光学元件包括第一反射镜和至少一个第二反射镜,并且其中所述光路区段中的一个是经所述第二反射镜反射的光路区段,而所述光路区段中的另一个是经所述第一反射镜反射的光路区段,所述至少一个遮蔽物被布置在所述第一反射镜和所述至少一个第二反射镜之间的所述两个反射光路区段之间的问隙中。
6.如权利要求5所述的投影物镜,其中,所述至少一个遮蔽物被固定在所述第一反射镜上。
7.如权利要求5所述的投影物镜,其中,所述至少一个遮蔽物被固定在所述第二反射镜上。
8.如权利要求1或2所述的投影物镜,其中,所述至少一个遮蔽物是板或者孔径。
9.一种用于将布置在物平面的图案成像到像平面的微光刻投影物镜,包括第一物镜部分、第二物镜部分和至少一个第三物镜部分,所述第二物镜部分限定与所述第一物镜部分中的光传播方向和所述第三物镜部分中的光传播方向不同的光传播方向,并且还包括在所述第一和第二物镜部分之间以及所述第二和第二物镜部分之间的至少一个光束偏折器、以一种方式布置在所述光束偏折器的区域内使得从所述第一物镜部分到所述第二物镜部分中的 直接光泄漏减少的至少一个遮蔽物,所述光束偏折器具有彼此成角度布置的第一反射表面和第二反射表面,并且其中所述至少一个遮蔽物从所述光束偏折器的角顶点开始在所述第二物镜部分的方向上延伸。
10.如权利要求9所述的投影物镜,其中,所述遮蔽物不限制所述成像光路。
11.如权利要求9所述的投影物镜,其中,所述遮蔽物是板。
12.如权利要求9或者11所述的投影物镜,其中,所述遮蔽物是吸收的或者覆有吸收层。
13.如权利要求9或者11所述的投影物镜,其中,在所述第二和/或第二物镜部分内产生至少一个中间图像,并且其中在所述中间图像的区域内布置至少一个另一遮蔽物。
14.如权利要求13所述的投影物镜,其中,所述至少一个另一遮蔽物是不限制所述成像光路的孔径。
15.如权利要求9或者11所述的投影物镜,其中,所述第二物镜部分是折反射的。
16.如权利要求9或者11所述的技影物镜,其中,所述第三物镜部分是屈光的。
17.如权利要求9或者11所述的投影物镜,其中,所述至少一个遮蔽物能够调整位置和/或能够相对于它的有效截面可变地设置。
18.如权利要求17所述的投影物镜,其中,所述遮蔽物的设置能够与限制所述成像光路的所述物镜的孔径的设置一样来执行。
19.如权利要求17所述的投影物镜,其中,所述遮蔽物的所述设置是用于成像的像场的尺寸的函数。
20.如权利要求17所述的技影物镜,其中,所述遮蔽物的所述设置能够作为所述照明设置的函数而执行。
21.如权利要求9或者11所述的投影物镜,其中,为遮蔽来自所述物平面的外孔径光而布置至少一个又一遮蔽物。
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