[发明专利]滤色片的制造方法及滤色片以及液晶显示装置

权利要求书

1.一种滤色片的制造方法，其特征在于，

包括曝光工序，其对于由感光性组合物构成且位于基材的表面的感光层，使至少具备光照射机构及光调制机构的曝光头、和所述感光层的至少任一个移动，同时利用所述光调制机构根据图案信息调制从所述光照射机构射出的光，并从所述曝光头照射，从而对所述感光层进行曝光，

所述感光性组合物包含：粘合剂、聚合性化合物、着色剂、及光聚合引发剂，所述着色剂中含有的颜料的数均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％。

2.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其中，

光调制机构具有n(其中，n为2以上的自然数)个排列为二维状的描绘像素部，该描绘像素部接受并射出来自光照射机构的光，并且基于图案信息可以控制所述描绘像素部。

3.根据权利要求1或2所述的滤色片的制造方法，其中，

光照射机构是射出由半导体激光器元件生成的激光的激光源。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

曝光头具备：聚光透镜系，其将来自光照射机构的光聚光，并向光调制机构照射；成像透镜系，其使利用所述光调制机构调制的光形成的像在感光层的被曝光面上成像。

5.根据权利要求4所述的滤色片的制造方法，其中，

成像透镜系包括：微透镜排列为阵列状而成的微透镜阵列。

6.根据权利要求4或5所述的滤色片的制造方法，其中，

成像透镜系包括：孔阵列，其是配置孔而成的，该孔以仅使经过了该微透镜的光入射的方式排列在微透镜的聚光位置附近。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

利用聚光透镜系使从光照射机构向光调制机构照射的光的照射区域内中的光量具有分布，并修正利用所述光调制机构调制的光的感光层的被曝光面上的光量分布，使该光量分布均匀。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

曝光是使用焦点调节机构进行的，该焦点调节机构改变利用光调制机构调制的光的光程长，从而调节成像于感光层的被曝光面的曝光光的焦点。

9.根据权利要求8所述的滤色片的制造方法，其中，

使利用光调制机构调制的光仅成像于包括成像透镜系的中央部的大致矩形状区域。

10.根据权利要求8或9所述的滤色片的制造方法，其中，

焦点调节机构具有：以使利用光调制机构调制的光的光轴方向的厚度变化的方式形成的楔型棱镜组，通过使构成该楔型棱镜组的各楔型棱镜移动，调节在将所述调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。

11.根据权利要求5～10中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

微透镜阵列的各微透镜具有：对由描绘像素部的面的变形引起的像差进行修正的非球面。

12.根据权利要求11所述的滤色片的制造方法，其中，

非球面为复曲面。

13.根据权利要求5～10中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

微透镜阵列的各微透镜具有对所述像素部的面的变形引起的像差进行修正的折射率分布。

14.根据权利要求5～10中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

微透镜阵列的各微透镜具有不使来自所述像素部的周边部的光入射的透镜开口形状。

15.根据权利要求1～14中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，

使用：描绘像素部的列方向相对于扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ地配置而成的曝光头，

对于所述曝光头，利用使用描绘像素部指定机构指定：能够使用的所述描绘像素部中用于N重曝光(其中，N为2以上的自然数)的所述描绘像素部，

对于所述曝光头，利用使用描绘像素部控制机构控制所述描绘像素部，使只有由所述使用描绘像素部指定机构指定的所述描绘像素部参与曝光，

对于所述感光层，使所述曝光头相对于扫描方向相对移动，从而进行曝光。