[发明专利]接触光刻设备、系统和方法

权利要求书

1.一种接触光刻设备100，220，其包括:

具有图案化区域112的掩模110，228a，222，所述图案化区域112具有光刻图案；以及

布置在所述掩模110，228a，222和被构图衬底130，228b，224之间的间隔体120，226，当所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224与所述间隔体120，226相互接触时，所述间隔体120，226提供所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之间分隔平行且靠近的取向310，

其中所述掩模110，228a，222、所述衬底130，228b，224和所述间隔体120，226之一或多者是可形变的，从而形变320促进了图案转移300。

2.根据权利要求1所述的接触光刻设备100，220，其中平行取向310的掩模110，228a，222和衬底130，228b，224的横向对准330和旋转对准330之一或两者由所述相互接触所促进。

3.根据权利要求1-2的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述间隔体120，226被固定到所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者。

4.根据权利要求1-3的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者包括所述间隔体120，226，所述间隔体120，226被制造成所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者的整体部分。

5.根据权利要求1-4的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述间隔体120，226具有间隔尺度S，其在平行取向310的掩模110，228a，222和衬底130，228b，224之间产生均匀空间，所述间隔尺度S为间隔体120，226的恒定截面直径或间隔体120，226的恒定高度。

6.根据权利要求1-5的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述间隔体120，226为如下情形之一或多者:可塑性形变、可弹性形变、可被动形变和可主动形变。

7.根据权利要求1-6的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述间隔体120，226的接触表面容易在所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者的接触表面上滑动，所述可滑动性由相应接触表面的材料特性或涂布到相应接触表面的低摩擦涂层材料提供。

8.根据权利要求1-7的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述间隔体120，226的接触表面容易在所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者的接触表面上滑动，所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者的接触表面包括局部起伏最小的区域。

9.根据权利要求1-8的任一项所述的接触光刻设备100，220，其中所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之一或两者彼此无关地为如下情形之一或多者:可塑性形变、可弹性形变、可被动形变、可主动形变和透明的。

10.根据权利要求1-9的任一项所述的接触光刻设备100，220，其用在接触光刻系统200中，所述系统200包括接触掩模对准器210，所述接触掩模对准器210对准330所述设备100，220的平行取向310的掩模110，228a，222和衬底130，228b，224，所述对准器210在形变促进320的图案转移300期间支撑所述设备100，220。