[发明专利]低蒸气压力的气体系统

权利要求书

1.一种用于运送低蒸气压力流体和制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其中，所述主要含有蒸气的流缺乏低挥发性杂质，所述系统并且向使用点传送所述主要含有蒸气的流，所述系统包括：

提供在其中含有液相或两相低蒸气压力流体的运送容器；

从所述运送容器向气化容器传输所述液体和/或两相低蒸气压力流体的一部分，在所述气化容器中至少蒸发了所述液体的一部分；

从所述气化容器中取出主要含有富含低挥发性杂质的液体的流；和

从所述气化容器中取出主要含有缺乏低挥发性杂质的流并将所述主要含有蒸气的流传送给使用点，其中，所述主要含有蒸气的流的低挥发性杂质水平保持在所需范围内。

2.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述系统还包括：

通过在其中注入高压惰性气体而对所述运送容器加压，以便将所述液体和/或两相流体传输到所述气化容器中。

3.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述系统还包括：从所述气化容器中以分批的方式或不连续的方式取出所述液相流或两相流。

4.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述系统还包括：

将从所述气化容器中取出的蒸气引向传送面板，所述传送面板控制传送给所述使用点的所述低蒸气压力蒸气流的流动速率、压力和温度。

5.根据权利要求1所述的用于制造主要含有所述蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述使用点为半导体、发光二极管或液晶显示器制造工具。

6.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述系统还包括：

经由对其施加的少量能量使所述运送容器加压。

7.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述系统还包括：

经由热交换器对容纳在所述气化容器中的所述液体加热，所述液体在所述热交换器中沸腾成为第二液态流体。

8.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述液相或两相流体为选自氨、氯化氢、二氧化碳、二氯甲硅烷或它们的混合物的非空气基流体。

9.根据权利要求1所述的用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的系统，其特征在于，所述气化容器中的液位保持在所述气化容器高度的大约1％至95％的范围内。

10.一种用于制造主要含有蒸气的低蒸气压力流的设备，其中，所述主要含有蒸气的流缺乏低挥发性杂质，所述设备包括：

在其中具有液相或两相流体的运送容器；

气化容器，所述液相或两相流体传输到所述气化容器中并至少部分地蒸发；

用于控制传送至所述气化容器的能量的装置；

第一导管，所述第一导管连接到所述气化容器的下半部分上，主要含有富含低挥发性杂质的液体的流通过所述第一导管取出；和

经由第二导管连接至所述气化容器的上半部分上的传送面板，主要含有蒸气的低蒸气压力流通过所述第二导管取出并被引向使用点，其中，所述主要含有蒸气的流的纯度保持在所需范围内。