[发明专利]一种制造光学系统的方法

权利要求书

1.一种计算光学系统(OS)的方法，其中，该光学系统(OS)用函数(OF)标识，其特征在于，所述光学系统(OS)包括用第一方程(EF1)定义的第一部分(F1)以及用第二方程(EF2)定义的第二部分(F2)，该方法包括以下步骤：

-产生步骤(GEN)，其中，用虚拟光学系统(VOS)产生虚拟函数(VOF)；

-修正步骤(MOD)，其中，修正虚拟函数(VOF)以获得函数(OF)；

-计算步骤(CAL)，其中，用于通过函数(OF)和第一方程(EF1)计算第二方程(EF2)。

2.根据权利要求1所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述虚拟光学系统(VOS)包括用第一虚拟方程(EVF1)定义的第一虚拟部分(VF1)和用第二虚拟方程(EVF2)定义的第二虚拟部分(VF2)，所述第一虚拟方程(EVF1)和所述第二虚拟方程(EVF2)定义了所述虚拟函数(VOF)。

3.根据权利要求1或者2所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述虚拟函数(VOF)基本上等于所述函数(OF)。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法，其特征在于，所述产生步骤还包括从数据库中选择所述第一虚拟方程(EVF1)。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的方法，其特征在于，还包括方程修正步骤，其中，用第一修正函数(N1)修正所述第一虚拟方程(EVF1)以获得第一已修正方程(EV’F1)，所述第一方程(EF1)基本上等于第一已修正方程(EVF’1)。

6.根据权利要求5所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述第一虚拟部分(VF1)包括所述虚拟光学系统(OS)的第一体，所述第一方程依赖于所述第一体(volume)的光电几何特性，所述第一修正函数(N1)至少修正所述光电几何特性之一。

7.根据权利要求6所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述光电几何特性至少包含从表面方程和体光学系数中的一个特性。

8.根据权利要求2所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述第一虚拟部分(VF1)是第一虚拟表面，所述第二虚拟部分(VF2)是第二虚拟表面。

9.根据权利要求8和5所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述函数(OF)依赖于所述第一表面方程和所述第二表面方程之间的差，而第二表面修正函数(N2)基本上等价于所述第一表面修正函数(N1)。

10.根据前述任一权利要求所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述函数(OF)是一个光学函数(OF)。

11.根据前述任一权利要求所述的计算光学系统(OS)的方法，其特征在于，所述光学系统(OS)是一个渐进焦度透镜。

12.一种制造光学系统(OS)的方法，所述光学系统(OS)用函数(OF)标识，所述光学系统(OS)包括用第一方程定义(EF1)的第一部分(F1)和用第二方程定义(EF2)的第二部分(F2)，其特征在于包括如下步骤：

-根据权利要求1至11中任一项所述的产生步骤(GEN)，修正步骤(MOD)，计算步骤(CAL)，其中计算步骤CAL用于通过所述函数(OF)和所述第一方程(EF1)来计算所述第二方程EF2；

-通过包含所述第一部分(F1)的半成品光学系统(SFOS)来获得已制造的半成品光学系统(MSFOS)；

-制造步骤(M2)，其中，用于通过制造所述半成品光学系统(MSFOS)以进一步提供用所述第二方程(EF2)定义的所述第二部分(F2)，从而获得所述光学系统(OS)。