[发明专利]疏水性二氧化硅颗粒及其制备方法

权利要求书

1.检测和/或识别指纹的方法，其包括使存在或可能存在指纹的区 域与包含疏水性二氧化硅颗粒的试剂接触，其中所述的方法包括将所 述试剂作为撒粉试剂或作为悬浮液应用于所述区域，所述悬浮液包含 水和可与水混溶的溶剂。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述指纹是身体部位的印迹。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列方 法获得：所述方法包括在一步法中使烷氧基硅烷单体和芳基取代的硅 烷醚单体的混合物与水解剂共同反应。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列方 法获得：在所述方法中所述烷氧基硅烷单体是四烷氧基硅烷单体。

5.如权利要求3所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列方 法获得：所述方法包括在一步法中使四乙氧基硅烷单体和苯基三乙氧 基硅烷单体的混合物与水解剂共同反应。

6.如权利要求3所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列方 法获得：在所述方法中所述水解剂是酸或碱。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列方 法获得：在所述方法中所述碱是氢氧化物。

8.如权利要求6所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列方 法获得：在所述方法中所述碱是氢氧化铵。

9.如权利要求3至8中任一项所述的方法，其中所述二氧化硅颗 粒通过下列方法获得：在所述方法中将染料分子和/或有色颗粒包含在 所述单体和所述水解剂的混合物中并从而并入所述疏水性二氧化硅颗 粒中。

10.如权利要求3至8中任一项所述的方法，还包括使所述指纹 显影或成像，其中所述二氧化硅颗粒包含显影剂或成像剂，并且所述 方法包括在所述表面与所述疏水性二氧化硅颗粒接触后，使所述疏水 性二氧化硅颗粒显影和/或成像。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述疏水性二氧化硅颗粒包 含用于使所述指纹成像的染料分子。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述染料为荧光染料。

13.如权利要求11所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒包含染料 分子和/或有色颗粒，所述染料分子和/或有色颗粒选自若丹明B、若丹 明6G、炭黑、二氧化钛、磁铁矿、结晶紫和亚甲基蓝。

14.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其中所述疏水性二氧 化硅颗粒包含磁性或顺磁性颗粒，使得用磁性敷抹器能将所述试剂应 用于所述区域。

15.如权利要求9所述的方法，其中所述疏水性二氧化硅颗粒包 含磁性或顺磁性颗粒，使得用磁性敷抹器能将所述试剂应用于所述区 域。

16.如权利要求10所述的方法，其中所述疏水性二氧化硅颗粒包 含磁性或顺磁性颗粒，使得用磁性敷抹器能将所述试剂应用于所述区 域。

17.如权利要求14所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒通过下列 方法获得：在所述方法中将磁性和/或顺磁性颗粒包含在所述单体和所 述水解剂的混合物中并从而并入所述疏水性二氧化硅颗粒中。

18.如权利要求14所述的方法，其中所述磁性或顺磁性颗粒包含 赤铁矿、二氧化钛、炭黑或磁铁矿。

19.如权利要求10所述的方法，还包括使用光学方法使所述指纹 显影。

20.如权利要求19所述的方法，其中所述光学方法选自UV探照 灯，包括台式光学扫描仪、荧光扫描仪和UV可见光扫描仪在内的扫 描仪。

21.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其中所述疏水性二氧 化硅颗粒是微米颗粒，所述微米颗粒的平均直径为10μm至90μm。

22.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其中所述疏水性二氧 化硅颗粒是微米颗粒，所述微米颗粒的平均直径为45μm至65μm。