[发明专利]在内处理透明体时形成在表面附近的激光标记有效
申请号: | 200680029913.X | 申请日: | 2006-08-09 |
公开(公告)号: | CN101243021A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | P·斯莫尔;M·兰克;C·海恩-坎普肯斯 | 申请(专利权)人: | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C03C23/00;B41M5/26 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢江;魏军 |
地址: | 列支敦士*** | 国省代码: | 列支敦士登;LI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 在内 处理 透明体 形成 表面 附近 激光 标记 | ||
1.一种用于在表面之下对透明的衬底形成标记的方法,其中该方法包括以下步骤:
-提供衬底,
-借助聚焦在表面之下的可见光对衬底形成标记,
其特征在于,
-在借助该可见光形成标记之前用包括至少一个介电层的层系统对该衬底涂覆,其中层材料的破坏阈值在用于形成标记的光照射之下大于衬底材料的破坏阈值。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将小于500μm的标记,优选小于350μm的标记与所述层系统的、与衬底交界的交界面分离。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述层系统对适用于读取标记的波长形成为抗反射层。
4.根据上述权利要求之一所述的方法,其特征在于,为了提高横向投影的像素密度,将所述标记写在两个不同的深度,其中该深度差异位于横向像素密度的数量级内。
5.根据上述权利要求之一所述的方法,其特征在于,所述层系统对用于形成标记的光形成为反射镜,并且借助由穿过衬底施加的层系统造成的反射来形成标记。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述层系统对于适用于读取的波长来说至少部分是可穿透的。
7.一种具有位于表面之下的标记以及具有介电层系统的衬底,该层系统至少包括一个介电层,其特征在于,该标记在衬底中仅位于离交界面500μm的地方而不是一直到交界面,该交界面是介电层系统与衬底形成的。
8.根据权利要求7所述的衬底,其特征在于,所述层系统的材料对于至少一个在可见区域内的适用于形成标记的波长来说具有比衬底材料高的破坏阈值。
9.根据权利要求7或8所述的衬底,其特征在于,所述层系统对于至少一个适用于读取标记的波长来说形成为减小反射的层。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的衬底,其特征在于,所述层系统对于适用于形成标记的波长来说形成为反射镜层。
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