[发明专利]等离子体产生装置、等离子体外科手术装置以及等离子体外科手术装置的应用有效
申请号: | 200680030225.5 | 申请日: | 2006-07-07 |
公开(公告)号: | CN101243732A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | N·苏斯洛夫;I·鲁宾纳 | 申请(专利权)人: | 普拉斯马外科股份公司;普拉斯马外科投资有限公司 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;H05H1/28 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 范莉 |
地址: | 瑞典默*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 产生 装置 外科手术 以及 应用 | ||
优先权
本申请要求瑞典专利申请No.0501603-5的优先权,该瑞典专利申请No.0501603-5的申请日为2005年7月8日。
技术领域
本发明涉及一种等离子体产生装置,它包括阳极、阴极和至少一个中间电极,所述中间电极布置成至少局部在所述阳极和所述阴极之间,所述中间电极和所述阳极至少形成等离子体槽道的一部分,该等离子体槽道有在所述阳极中的开口。本发明还用于等离子体外科手术装置和等离子体外科手术装置的应用。
背景技术
等离子体装置涉及用于产生气体等离子体的装置。该气体等离子体例如可以用于外科手术中,目的是破坏(剖开)生物组织和/或使生物组织凝结(coagulation)。
通常,这样的等离子体装置形成有较长和较窄的端部等,它能够很容易地施加在要进行治疗的合适区域,例如流血组织。在装置的顶端有气体等离子体,该气体等离子体的高温能够治疗该顶端附近的组织。
WO2004/030551(Suslov)公开了一种现有技术的等离子体外科手术装置。该装置包括等离子体产生系统,该等离子体产生系统有阳极、阴极和用于将气体供给该等离子体产生系统的气体供给槽道。而且,等离子体产生系统包括多个电极,这些电极布置在所述阴极和阳极之间。与阳极连接的导电材料壳体包围等离子体产生系统,并形成气体供给槽道。
由于近来外科手术技术的发展,经常使用称为腹腔镜(锁孔)外科手术的技术。这意味着更需要小尺寸的装置,以便能够在没有较大外科手术的情况下进行接近。较小仪器也有利于在外科手术操作中获得良好的精度。
还希望能够提高等离子体射流的精度,这样,例如可能受到热影响的区域更小。还希望能够获得一种等离子体产生装置,它使得要治疗的区域周围受到有限的热作用。
因此,需要改进等离子体装置,特别是能够制造高温等离子体的小尺寸和高精度等离子体装置。
发明内容
本发明的目的是提供根据权利要求1的前序部分所述的改进的等离子体产生装置。
本发明的另一目的是提供一种等离子体外科手术装置以及该等离子体外科手术装置在外科手术领域中的应用。
根据本发明的一个方面,提供了一种等离子体产生装置,它包括阳极、阴极和至少一个中间电极,所述中间电极布置成至少局部在所述阳极和所述阴极之间,所述中间电极和所述阳极至少形成等离子体槽道的一部分,该等离子体槽道有在所述阳极中的开口。
根据本发明,等离子体产生装置包括至少一个冷却剂槽道,该冷却剂槽道布置有至少一个出口开口,该出口开口定位成沿从阴极至阳极的方向超过所述至少一个中间电极,且所述冷却剂槽道在所述出口开口处的槽道方向有定向部件,该槽道方向与等离子体槽道在开口处的槽道方向相同。
等离子体产生装置的该结构使得用于在冷却剂槽道中流动的冷却剂能够在等离子体槽道的开口附近在等离子体产生装置的端部处流出。由该结构获得的优点是,通过冷却剂槽道的出口流出的冷却剂可以用于屏蔽和限制通过开口于阳极中的等离子体槽道出口而排出的等离子体射流。屏蔽和限制等离子体射流首先在治疗小区域时特别有利,因为可以有效限制产生的等离子体射流的传播。
还可以使用流出的冷却剂来冷却受到等离子体射流影响的目标。冷却要治疗的目标例如可以适合于保护治疗区域周围的区域。
例如,等离子体射流可以沿它的纵向方向被屏蔽,这样,在屏蔽件的一侧有相当低的热量,在屏蔽件的另一侧有较高热量。这样,沿等离子体射流的流动方向获得等离子体射流的基本独特位置,要治疗的目标在该位置处受到影响,这可以使得等离子体产生装置更精确地工作。
类似的,流出的冷却剂可以提供沿径向方向的等离子体射流屏蔽(相对于等离子体射流的流动方向)。这样沿径向方向屏蔽使得相对较小的表面能够在治疗时受到热影响。相对于等离子体的流动方向沿横向方向屏蔽也使得治疗区域周围的区域能够同时通过流出的冷却剂而冷却,因此受到等离子体射流的热量的影响程度相对较小。
现有技术的等离子体产生装置通常使用封闭冷却剂系统来在工作中冷却等离子体产生装置。这样的封闭冷却剂系统通常布置成使得冷却剂沿等离子体产生装置中的一个通路流入,并沿另一通路返回。这通常产生相对较长的流动通路。较长流动通路的缺点是用于冷却剂的流动槽道通常必须制成为相对较大,以便防止较大压力降。这又意味着流动槽道占据空间,这影响等离子体产生装置的外部尺寸。
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