[发明专利]用于大功率激光处理的系统和方法

权利要求书

1.一种大功率激光处理系统，该系统包含用于提供第一波长的大功率激光照射的激光源和至少一个光学元件，该至少一个光学元件包含对于所述第一波长照射基本是透明的衬底、在所述衬底的第一侧面上的至少一个强反射涂层、以及在所述衬底的第二侧面上的至少一个抗反射涂层。

2.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述衬底包含硅。

3.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述强反射涂层包含金属氧化物。

4.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述抗反射涂层包含氟化镁、氧化铝、氟化铊和硫化锌中的至少一个。

5.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述衬底被选择为对于所述第一波长的照射基本是透明的。

6.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述光学元件包含由抗反射材料制成的多个涂层。

7.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述系统用于焊接、切割或钻孔。

8.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述系统还包括用于接纳通过所述光学元件的照射的散热阱。

9.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述系统包含用于接纳通过多个光学元件中的每一个的照射的多个散热阱。

10.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述激光源包含CO₂激光和大约10.6μm的所述第一波长。

11.根据权利要求1的大功率激光处理系统，其中所述激光源不包含有源冷却系统。

12.一种提供大功率激光处理系统的方法，该方法包含提供第一波长的大功率激光照射的步骤，和提供至少一个光学元件的步骤，该至少一个光学元件包含对于所述第一波长照射基本是透明的衬底、在所述衬底的第一侧面上的至少一个强反射涂层、以及在所述衬底的第二侧面上的至少一个抗反射涂层。

13.根据权利要求12的方法，其中所述衬底包含硅。

14.根据权利要求12的方法，其中所述强反射涂层包含金属氧化物。

15.根据权利要求12的方法，其中所述抗反射涂层包含氟化镁、氧化铝、氟化铊和硫化锌中的至少一个。

16.根据权利要求12的方法，其中所述衬底被选择为对于所述第一波长的照射基本是透明的。

17.根据权利要求12的方法，其中所述光学元件包含由抗反射材料制成的多个涂层。

18.根据权利要求12的方法，其中所述方法还包括使用所述激光照射进行焊接、切割或钻孔的步骤。

19.根据权利要求12的方法，其中所述激光源包含CO₂激光且所述第一波长为大约10.6μm。

20.根据权利要求12的方法，其中所述方法不包含有源冷却所述光学元件的步骤。

21.一种大功率激光处理系统，该系统包含用于提供第一波长的大功率激光照射的激光源和至少一个光学元件，该至少一个光学元件包含对于所述第一波长照射基本是透明的衬底、在所述衬底的第一侧面上的至少一个强反射涂层、以及在所述衬底的第二侧面上的至少一个抗反射涂层，其中通过反射镜的未反射能量被散热结构俘获。

22.根据权利要求21的系统，其中所述散热结构被自然对流冷却。

23.根据权利要求21的系统，其中所述散热结构被强制对流冷却。

24.根据权利要求21的系统，其中所述散热结构通过循环冷却液被冷却。