[发明专利]间歇性蚀刻冷却

权利要求书

1.一种气相蚀刻方法，包括：

(a)将要蚀刻的样品放入主腔内；

(b)在步骤(a)之后，将所述主腔内的空气从中排出；

(c)在排空所述主腔之后，将蚀刻气体输入排空的主腔；

(d)在步骤(c)中将蚀刻气体输入排空的主腔之后，将所述蚀 刻气体从所述主腔中排出；

(e)在步骤(d)中将所述蚀刻气体从所述主腔中排出之后，将 冷却和/或清除气体输入所述主腔，从而在不将所述冷却和/或清除气体 输入膨胀腔的情况下对所述样品进行冷却；

(f)在步骤(e)中将冷却和/或清除气体输入所述主腔之后，将 所述冷却和/或清除气体独立地从所述主腔中排出；并且

(g)重复步骤(c)到步骤(f)，直至所述样品被蚀刻到期望的 程度，

其中，所述气相蚀刻方法还包括在每次进行步骤(c)之前将所述 蚀刻气体输入所述膨胀腔，并且步骤(c)包括将所述膨胀腔中的所述 蚀刻气体输入所述主腔。

2.如权利要求1所述的方法，在步骤(b)和第一次重复步骤(c) 之间，还包括：

(1)将冷却和/或清除气体输入排空的主腔；

(2)将所述冷却和/或清除气体从所述主腔中排出；并且

(3)将步骤(1)和步骤(2)至少重复一次。

3.如权利要求1所述的方法，还包括：

在步骤(c)和(d)之间，将所述蚀刻气体在所述腔内保留第一 时间段；并且

在步骤(e)和(f)之间，将所述冷却和/或清除气体在所述腔内 保留第二时间段。

4.如权利要求3所述的方法，其中：

所述第一时间段小于10秒；并且

所述第二时间段小于20秒。

5.如权利要求1所述的方法，其中：

在步骤(b)、步骤(d)、步骤(f)的至少一个中，所述主腔被 抽真空到0.01torr与1.0torr之间的压强；并且

在步骤(c)和步骤(e)的至少一个中，向所述主腔输入气体到 1torr与600torr之间的压强。

6.一种气相蚀刻系统，包括：

主腔，用于支持被蚀刻的样品；

蚀刻气体源，经由第一气体控制阀与所述主腔流体连通；

冷却和/或清除气体源，经由第二气体控制阀与所述主腔流体连 通；

真空泵，经由第三气体控制阀与所述主腔流体连通；

控制器，用于控制所述各气体控制阀，从而使蚀刻气体和冷却和/ 或清除气体多次被交替地输入所述主腔，并在交替输入之间被排出， 其中，在蚀刻气体被交替地输入所述主腔之间，使得输入所述主腔的 冷却和/或清除气体在所述主腔内保留足够的时间，以将所述样品的温 度降低到期望温度；

膨胀腔，在所述第一气体控制阀和所述主腔之间流体连通；

第四气体控制阀，在所述膨胀腔和所述主腔之间流体连通，其中 所述控制器用于控制所述第一气体控制阀和所述第四气体控制阀，从 而使得在每次将蚀刻气体输入所述主腔之前，所述蚀刻气体被输入所 述膨胀腔；以及

第五气体控制阀，其在所述膨胀腔和所述真空泵之间流体连通， 其中所述控制器用于控制所述各气体控制阀，从而使所述膨胀腔中的 气体能够被所述真空泵直接地、独立地排出，或者与所述主腔中的气 体同时排出。

7.如权利要求6所述的系统，其中分别来自所述蚀刻气体源和所 述冷却和/或清除气体源的蚀刻气体和冷却和/或清除气体被交替地输 入所述主腔，直至所述样品被蚀刻到期望的程度。