[发明专利]粒子半导体材料的掺杂有效
申请号: | 200680031074.5 | 申请日: | 2006-08-23 |
公开(公告)号: | CN101248222A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
发明(设计)人: | 大卫·托马斯·布里顿;马尔吉特·黑廷 | 申请(专利权)人: | 开普敦大学 |
主分类号: | C30B31/00 | 分类号: | C30B31/00;C09D11/00;H01L21/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王旭 |
地址: | 南非*** | 国省代码: | 南非;ZA |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 半导体材料 掺杂 | ||
1.一种掺杂半导体材料的方法,所述方法包括将一定量的粒子半导体 材料与离子盐或离子盐制剂混合,以引起离子被吸附到所述粒子上或吸附 到所述粒子内,由此改变所述粒子的游离载体浓度,其中所述粒子半导体 材料的粒度在1nm至100μm范围内,其中所述离子盐或离子盐制剂包括 NaCl或MgCl2。
2.根据权利要求1所述的方法,所述方法包括:将具有过量阳离子物 种的离子盐制剂加入到一定量的粒子半导体材料中,所述具有过量阳离子 物种的离子盐制剂是通过加入相应盐的碱而获得的。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述盐是氯化钠(NaCl),而所述 碱是氢氧化钠(NaOH)。
4.根据权利要求2所述的方法,其中所述盐是氯化镁(MgCl2),而所 述碱是氢氧化镁(Mg(OH)2)。
5.根据权利要求所述的方法,所述方法包括:将具有过量阴离子物种 的离子盐制剂加入到一定量的粒子半导体材料中,所述具有过量阴离子物 种的离子盐制剂是通过加入相应盐的酸而获得的。
6.根据权利要求5所述的方法,其中所述盐是氯化钠(NaCl),而所述 酸是盐酸(HCl)。
7.根据权利要求5所述的方法,其中所述盐是氯化镁(MgCl2),而所 述酸是盐酸(HCl)。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述粒子半导体材料包含:第IV 族元素;二元、三元或四元化合物半导体;氧化物;或硫属元素化物半导 体材料。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述材料包含硅。
10.根据权利要求8或权利要求9所述的方法,其中所述粒子半导体 材料包含本征材料。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述材料包含本征硅。
12.根据权利要求8或权利要求9所述的方法,其中所述粒子半导体 材料包含n-型材料。
13.根据权利要求12所述的方法,其中所述材料包含冶金级硅。
14.根据权利要求1所述的方法,其中所述粒子半导体材料的粒度在 10nm至1000nm范围内。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述粒子半导体材料的粒度在 50nm至500nm范围内。
16.根据权利要求15所述的方法,其中所述粒子半导体材料包含平均 粒度为60nm的标定本征硅纳米粉末。
17.根据权利要求15所述的方法,其中所述粒子半导体材料包含平均 粒度为200nm的冶金级硅纳米粉末。
18.一种可印刷组合物,所述组合物包含根据权利要求1至17中任一 项的方法掺杂的粒子半导体材料、粘合剂以及溶剂,其中,在制备所述掺 杂的粒子半导体材料的方法中,将一定量的粒子半导体材料与离子盐或离 子盐制剂混合,以引起离子被吸附到所述粒子上或吸附到所述粒子内,由 此改变所述粒子的游离载体浓度,其中所述粒子半导体材料的粒度在1nm 至100μm范围内,所述离子盐或离子盐制剂包括NaCl或MgCl2。
19.根据权利要求18所述的可印刷组合物,其中在与所述粘合剂和/ 或溶剂混合之前,将粒子半导体材料用离子盐或该盐的制剂掺杂。
20.根据权利要求18所述的可印刷组合物,其中在加入所述离子盐或 该盐的制剂之前,将所述粒子半导体材料与粘合剂和/或溶剂混合。
21.根据权利要求18至20中任一项所述的可印刷组合物,其中所述 粘合剂是乙酸丁酸纤维素(CAB)。
22.根据权利要求18所述的可印刷组合物,其中所述溶剂是氯仿、丙 酮或稀释剂。
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