[发明专利]软质表面修复系统和方法无效
申请号: | 200680031260.9 | 申请日: | 2006-06-27 |
公开(公告)号: | CN101252955A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
发明(设计)人: | M·M·萨瓦斯基;J·R·约翰森 | 申请(专利权)人: | S.C.约翰逊父子公司 |
主分类号: | A61L2/00 | 分类号: | A61L2/00;B08B1/00;A47L11/00;A47L13/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 沙捷 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 修复 系统 方法 | ||
1.一利控制软质表面上污染物的引入、产生和保持的装置,包括:
排出机构;
可操作地连接到所述排出机构的移位机构;
与所述排出机构和移位机构中的至少一个关联的去除机构;和
可操作地连接到另一机构中的至少一个的消毒机构。
2.如权利要求1所述的装置,其中所述排出机构将污染物从软质表面或其附近释放出来,并且是一种通过施加足够的力来克服污染物对所述软质表面上的附着力以使所述污染物从所述软质表面脱离的工具。
3.如权利要求2所述的装置,其中所述移位机构在污染物从软质表面中释放之后移动污染物。
4.如权利要求3所述的装置,其中所述去除机构在污染物从所述软质表面被释放并被移动之后收集、移去和去除污染物。
5.如权利要求1所述的装置,其中所述去除机构为下列的至少之一:过滤器、无纺材料、纺织材料、污染物收集杯、容器、粘性带、捕蝇纸和污染物吸附凝胶或液体。
6.如权利要求1所述的装置,其中所述排出机构为下列的至少之一:机械拍打器、静电吸附材料和气流工具。
7.如权利要求1所述的装置,其中所述消毒机构是用于下列至少之一的处理:尘螨、细菌、霉、昆虫、病菌、霉菌和清新化。
8.如权利要求1所述的装置,其中所述消毒机构去除异味或者相反地改良软质表面的气味或感知的清新度。
9.如权利要求1所述的装置,其中所述消毒机构包括喷雾、液体、泡沫、粉末和气溶胶中的至少一种,以提供去除异味、灭菌质量、有机物生长抑制或散发良好香味中的至少一项。
10.如权利要求1所述的装置,其中所述排出机构是包括凝胶、液体、泡沫和气雾剂驱动的制剂中的至少一种的化学制剂;并且
其中所述去除机构包括收集托盘,所述收集托盘包括带电荷的静电机构。
11.如权利要求1所述的装置,其中所述排出机构是一种声学机构,其包括发出共振低音音调、次声波形、声音波形和组合音调中的一种的装置。
12.如权利要求6所述的装置,其中所述气流工具包括风扇、与所述风扇连通的空气过滤器,和与所述风扇可操作连通的消毒流体。
13.如权利要求1所述的装置,其中所述排出机构为下列的至少之一:冲击工具、刮擦工具、刷洗工具、气压释放工具、拍打工具、撞击工具、振动工具和旋转工具。
14.如权利要求1所述的装置,其中所述排出机构具有由卷绕装置、电池或交/直流电源提供的机械能。
15.如权利要求1所述的装置,其中所述去除机构是下列的至少之一:高能颗粒空气过滤器、过滤装置、龙卷风杯、布滤器或者高空气流量过滤器;并且
其中所述移位机构包括电荷发生器,其产生电场以将污染物从软质表面推开。
16.如权利要求11所述的装置,其中声学机构包括声学亚低音扬声器膜,其产生单一的低频波长以将污染物从软质表面中排出。
17.如权利要求11所述的装置,其中所述声学机构包括波形产生器,该波形产生器产生声能波形来完成排出和移位。
18.一种清洁系统,包括:
低冲击修复技术装置,用于从软质表面同时排出、移位、去除和消毒颗粒。
19.如权利要求18所述的系统,其中所述技术装置是下列的至少之一:声学装置、强制吹风装置、化学制剂、静电装置和机械拍打器。
20.一种软质表面修复方法,包括以下步骤:
从表面排出颗粒;
使所述颗粒移位;
去除移位后的颗粒;和
对所述表面进行消毒以防止再引入其它颗粒。
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