[发明专利]光波导膜及其制造方法、包含它的光电混载膜及电子设备有效
申请号: | 200680031395.5 | 申请日: | 2006-08-24 |
公开(公告)号: | CN101253433A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
发明(设计)人: | 盐田刚史 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B6/13;H05K1/02 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波导 及其 制造 方法 包含 光电 混载膜 电子设备 | ||
1.一种光波导膜的制造方法,是在含有由树脂构成的芯和包层并具有光 输入部的光波导膜中,上述芯具有厚度比上述光输入部的芯厚度薄的部位,芯 厚度变化的部位中的上述芯的倾斜角度为0.1~2°,上述薄部位的芯厚度为 10μm以上的光波导膜的制造方法,其特征在于,
包含:涂敷芯材或者其前驱物质的溶液的步骤;以及
除去上述已涂敷的溶液的一部分的步骤。
2.一种光波导膜的制造方法,是在含有由树脂构成的芯和包层并具有光 输入部的光波导膜中,上述芯具有厚度比上述光输入部的芯厚度薄的部位,芯 厚度变化的部位中的上述芯的倾斜角度为0.1~2°,上述薄部位的芯厚度为 10μm以上的光波导膜的制造方法,其特征在于,
包括使用具备具有膜厚控制部的涂抹器头的涂抹器涂敷芯材或者其前驱 物质的溶液的步骤。
3.一种光波导膜,包含由树脂构成的芯和包层并具有光输入部,其特征 在于,
上述膜的一方的面具有凹部,且上述膜的另一方的面是平面,
上述芯具有厚度比上述光输入部的芯厚度薄的部位,
芯厚度变化的部位中的上述芯的倾斜角度为0.1~2°,上述薄部位的芯厚 度为10μm以上。
4.根据权利要求3所述的光波导膜,其特征在于,
上述光输入部是在波导方向的膜两端部中,厚度比另一端部大或者相等的 膜端部。
5.根据权利要求3所述的光波导膜,其特征在于,
上述薄的部位的膜厚的最小厚度是上述光输入部的膜厚的10%-80%。
6.根据权利要求3所述的光波导膜,其特征在于,
具有沿波导方向延伸的槽。
7.一种光电混载膜,其特征在于,
含有权利要求3所述的光波导膜及接合在上述光波导膜的表面中的上述 平面的面上的电路板。
8.一种电子设备,其特征在于,
电子设备内装有权利要求3所述的光波导膜,上述光波导膜在上述薄的部 位弯曲。
9.一种电子设备,其特征在于,
电子设备内装有权利要求7所述的光电混载膜,上述光波导膜在上述薄的 部位弯曲。
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