[发明专利]用于脉冲沉积监测和控制的传感器无效
申请号: | 200680031477.X | 申请日: | 2006-06-28 |
公开(公告)号: | CN101253283A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
发明(设计)人: | M·斯帕策 | 申请(专利权)人: | MKS仪器公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王永建 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 脉冲 沉积 监测 控制 传感器 | ||
1.一种用于传输气体的设备,包括:
处理室;
脉冲气体传输装置,其被构造为以一个或多个脉冲传输气体 到处理室中;
光学传感器,其设置在脉冲气体传输装置和处理室之间;
其中,所述光学传感器包括:
光源,其被构造为在包括气体吸收频率的光谱范围内产生光 辐射;
用于该气体的容器;
波长选择装置,其包括被构造为选择性地将容器中预定窄波 段带宽的光辐射从容器传送到检测器的窄波段过滤器;以及
光学检测器,其被构造为检测从光源通过该容器中气体光辐 射传输之后到达检测器的光辐射强度;
该设备还包括控制器,其被构造为通过传感器的响应来确定 和监测由脉冲气体传输装置在该位置传输的气体的量,所述控制 器还被构造为响应于所检测到的由来自光学检测器的信号所表示 的强度,通过产生和传输可将由脉冲气体传输装置传输的气体量 适当地调节至预定量的一个或多个控制信号,来实时监测气体的 传输,该控制器还被构造为测量在包括多个脉冲的时间周期内通 过脉冲气体传输装置传输到处理室中的气体的总量,该控制器还 被构造为根据检测器确定的强度导出容器中气体吸收的光辐射吸 收量从而确定由气体传输装置传输的气体的量。
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述检测器还 被构造为产生一个或多个表示检测的光辐射强度的检测器信号, 且其中控制器还被构造为通过处理检测器信号来测量传输的气体 的量。
3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述控制器还 包括监测装置,该监测装置被构造为通过产生和传输可将气体传 输适当地调节至预定量的控制信号,来实时监测气体传输。
4.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述控制器还 被构造为确定由气体传输装置进行的气体传输是否为零值,如果 是,重置传感器来记录零值。
5.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,
所述控制器被构造为除了确定和监测在包括多个脉冲的时间 周期内传输的气体的总量之外还确定和监测每一个脉冲期间传输 的气体的量。
6.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述脉冲气体 传输装置为ALD(原子层沉积)气体传输装置,所述处理室为ALD 处理室,且所述设备为ALD系统,其中所述ALD气体传输装置 被构造为传输至少一种ALD前驱体气体至ALD处理室。
7.根据权利要求6所述的设备,其特征在于,所述控制器还 被构造为确定和监测在每个脉冲期间从ALD气体传输装置至 ALD处理室传输的ALD前驱体气体的浓度,以及
其中所述控制器还被构造为确定和监测在包括ALD气体传输 装置、ALD处理室和用于ALD气体传输装置的液体前驱体源的 ALD系统的一个循环期间传输的ALD前驱体气体的总量。
8.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,所述控制器还 被构造为监测ALD系统的气体传输的变化。
9.根据权利要求3所述的设备,其特征在于,所述控制器还 被构造为监测脉冲气体传输装置的上升时间和下落时间中的至少 一个。
10.根据权利要求3所述的设备,其特征在于,所述控制器还 被构造为监测脉冲气体传输装置的绝对零值。
11.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述光源在大 于10Hz下被调制。
12.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述波长选择 装置还包括下述中的至少一个:
光栅;
棱镜;
激光器;
特定频率二极管;
干涉仪;和
声光滤光器。
13.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述检测器包 括感光检测器。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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