[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及分别拍摄基板和光掩膜的对准标记，基于它们的图像对基板与光掩膜进行对位后曝光的曝光装置，详细地说，涉及这样的曝光装置：使基板和光掩膜的各对准标记同时成像在拍摄装置的受光面上，以缩短对位的处理时间。

背景技术

现有的曝光装置具有：在上表面载置并保持着已涂覆了感光性树脂的基板的载物台；靠近并与该基板对置而保持光掩膜的掩膜载物台；拍摄装置，分别在同一视场内捕捉并拍摄形成在上述基板上的基板侧对准标记和形成在上述光掩膜上的掩膜侧对准标记，所述曝光装置首先在使掩膜侧对准标记成像在拍摄装置的受光面上的状态下移动拍摄装置，将掩膜侧对准标记定位在其视场内中央部，接着，在使基板侧对准标记成像在上述受光面上的状态下移动载物台，将基板侧对准标记定位在拍摄装置的视场内中央部，从而对基板与光掩膜进行对位(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：JP特开平5-196420号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，在这样的现有曝光装置中，由于基板侧对准标记和掩膜侧对准标记的位置向拍摄装置的光轴方向偏移了，因此，不能同时将两对准标记成像在拍摄装置的受光面上。从而，在如上所述对基板和光掩膜进行对位的情况下，需要首先调整位置而使掩膜侧对准标记成像在拍摄装置的受光面上，接着调整位置而使基板侧对准标记成像在上述受光面上，导致对位的处理时间变长。

因此，本发明针对这样的问题点，目的在于提供一种缩短基板与光掩膜的对位的处理时间的曝光装置。

用于解决问题的方法

为了达到上述目的，本发明涉及的曝光装置具有：载物台，其在上表面载置并保持涂覆有感光性树脂的基板，掩膜载物台，其设置在上述载物台的上方，用于保持光掩膜，以使光掩膜靠近上述基板并与上述基板对置，拍摄装置，其分别将形成于上述基板上的基板侧对准标记和形成于上述光掩膜上的掩膜侧对准标记捕捉到同一视场内，并进行拍摄；上述曝光装置基于上述拍摄装置拍摄到的上述基板侧及掩膜侧对准标记的各图像，使上述载物台和掩膜载物台相对移动，以此对上述基板和光掩膜进行对位，然后进行曝光，上述曝光装置的特征在于，上述曝光装置具有光学距离修正装置，该光学距离修正装置使上述拍摄装置的受光面与基板之间的光学距离和上述拍摄装置的受光面与光掩膜之间的光学距离大致一致。

根据这样的结构，用载物台在其上表面载置并保持已涂覆了感光性树脂的基板，用掩膜载物台保持光掩膜，使其靠近上述基板并与上述基板对置，用光学距离修正装置使拍摄装置的受光面与基板之间的光学距离和拍摄装置的受光面与光掩膜之间的光学距离大致一致，用拍摄装置在同一视场内捕捉并拍摄基板侧和掩膜侧对准标记，基于该拍摄到的基板侧和掩膜侧对准标记的各图像，使上述载物台和掩膜载物台相对移动，以此对上述基板和光掩膜进行对位，然后进行曝光，

此外，上述光学距离修正装置是具有规定折射率的透明部件，而且至少配置在连结上述拍摄装置的受光面和基板的光路上。这样，用具有规定折射率的透明部件，使拍摄装置的受光面与基板之间的光学距离和拍摄装置的受光面与光掩膜之间的光学距离大致一致。

另外，上述载物台是在曝光过程中向规定方向移动并搬送载置在上表面的基板的装置。由此，用向规定方向移动的载物台，在曝光过程中搬送载置在其上表面的基板。

并且，上述拍摄装置具有排列为一条直线状的用于接受光的多个受光元件。由此，用呈一条直线状排列的多个受光元件拍摄基板侧和掩膜侧对准标记。

发明效果

根据上述第一技术方案涉及的发明，即使在基板和光掩膜在拍摄装置的光轴方向相互偏移的情况下，也能够使形成在基板上的基板侧对准标记和形成在光掩膜上的掩膜侧对准标记的像同时成像在拍摄装置的受光面上。从而，能够同时并且实时地对拍摄到的基板侧对准标记和掩膜侧对准标记进行图像处理，从而能够缩短基板与光掩膜的对位的处理时间。此外，由于不是如现有技术这样地向拍摄装置的光轴方向移动拍摄装置后分别拍摄基板侧和光掩膜侧对准标记，因此，不会产生由拍摄装置的移动偏移所产生的位置偏移。从而，能够提高对位精度。

此外，根据上述第二技术方案涉及的发明，能够利用具有规定折射率的透明部件，将在前方成像的基板侧对准标记的成像位置相对于掩膜侧对准标记的成像位置向后方错开。从而，能够用简单的结构来修正进行光学距离。

另外，根据上述第三技术方案涉及的发明，能够在搬送基板的同时进行曝光，并能够缩小光掩膜的尺寸。因此，能够使光掩膜的成本廉价。