[发明专利]隐形眼镜材料的制造方法和软质隐形眼镜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜材料的制造方法和使用通过所述方法得到的隐形眼镜材料制造软质隐形眼镜的方法。

背景技术

有人根据临床结果指出，当佩戴隐形眼镜时，来自大气的氧气的供应量会下降，其结果会导致角膜上皮细胞的分裂被抑制或角膜肥厚。因此，为了供应安全性更高的隐形眼镜，人们尝试改良素材的氧透过性。

众所周知，含水性软质隐形眼镜由于其材料的柔软性而佩戴感好，但是，由于眼镜的含水率，其氧透过性与硬质隐形眼镜相比较低。例如当为含水性软质隐形眼镜时，含水率80％的素材的氧透过系数为约40×10^-11(cm²/sec)·(mLO₂/mL×mmHg)左右，无法向角膜供应充足的氧气量。从这方面考虑，为了提高软质隐形眼镜的氧透过性，有人提出了以含聚硅氧烷单体、硅氧烷大分子单体、及用于防止耐污染的含氟单体为眼镜成分的隐形眼镜。例如，日本专利文献特开2001-311917号公报公开了使用侧链上具有二甲基硅氧烷结构的大分子单体的、柔软性和氧透过性优良的软质隐形眼镜基体材料。但是，一般来说，如果在眼镜素材中使用聚硅氧烷成分和氟成分，则眼镜表面的水润湿性有降低的倾向，其结果，容易附着泪液成分中的污物，根据情况也有时会使佩戴感变差。

从上述事项出发，为了进一步提高隐形眼镜表面的水湿润性，有人提出了各种表面处理方法。日本专利文献特公昭63-040293号公报公开了以下处理方法，即，在实质上不含氮和氧的烃气氛下对聚硅氧烷或聚氨脂眼镜进行涂布，接着向这些眼镜供应氧气，由此增大眼镜表面的亲水性。在这样的涂布方法中，聚硅氧烷水凝胶眼镜在非含水状态下受到等离子处理。但是，为使眼镜成为最终产品，还需要对等离子处理后的眼镜使用乙醇等有机溶剂除去残留在眼镜中的对生物体不好的未聚合单体和低聚物等，之后，置换为生理盐水或软质隐形眼镜用保存液(填充液)等，连续实施高压蒸气灭菌处理。在使用上述乙醇等有机溶剂的萃取工序、和使用生理盐水或软质隐形眼镜用保存液的含水工序中，眼镜的体积溶胀10～50％左右。由于该涂布膜为在烃气氛下形成的交联密度极高的刚硬膜，因此存在聚合膜剥离或眼镜表面产生裂纹等问题。另外，在上述萃取或溶胀工序中形成的膜的剥离或裂纹由于连续实施的高压蒸气灭菌处理而使不良程度越发显著，从而变得不适合作为与眼镜直接接触的隐形眼镜。

另外，日本专利文献特开昭62-031803号公报公开了通过饱和烃和氧的混合气体进行等离子处理的方法。但是，在通过饱和烃和氧的混合气体进行等离子聚合当中，通过等离子制成的聚合膜与形成在眼镜上的膜相比，由于氧等离子体的蚀刻效果而由蚀刻来切削的速度比例变大。因此，为了达到期望的膜厚特别花费处理时间，因此该方法在商业上使用时会存在问题。

另外，在高分子论文集(vol.42、No.11、P841-847、1985)上作为“对硅橡胶隐形眼镜表面等离子聚合的应用及其效果”记载有使用N-乙烯基-2-吡咯烷酮(以下，称为NVP)单体的、水润湿性和耐久性优良的聚合膜。在该方法中，可以形成水润湿性和耐久性优良的聚合膜。但是，众所周知，涂布中使用的NVP在气化状态下具有致癌性，当将以这样的NVP为代表的有机单体用作等离子处理的气体时，必须对操作人员和作业场所的安全严加防范。因此，该方法在商业上应用也存在问题。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜材料，特别是，提供如下的隐形眼镜材料，即：在非含水状态下对眼镜表面进行涂布后，即使经过使用乙醇等有机溶剂的萃取工序、使用生理盐水或软质隐形眼镜用保存液的含水工序以及连续实施的高压蒸气灭菌处理工序后，在眼镜表面上形成的膜也经得起眼镜的体积溶胀，眼镜表面不会产生膜的缺损等佩戴问题，具有优良的光滑性，并且具有在佩戴时充分的表面水润湿性和耐久性。

本发明涉及隐形眼镜材料的制造方法，所述隐形眼镜材料包括：隐形眼镜基体材料和形成在该基体材料表面的至少一部分上的覆膜，在隐形眼镜材料的制造方法中，对所述隐形眼镜基体材料在甲烷和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理，然后在非聚合性气体气氛下进行等离子处理，由此形成所述覆膜。

并且，本发明还提供一种软质隐形眼镜的制造方法，使通过上述方法制造出的软质隐形眼镜材料含水，得到软质隐形眼镜。

根据本发明，可以提供表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜，特别是，可以提供由包含作为眼镜成分的聚硅氧烷的水凝胶形成的软质隐形眼镜。