[发明专利]光刻技术方法

权利要求书

1.一种光刻图案成形的方法，其包括步骤：

向要形成图案的表面涂覆光致抗蚀剂(18)，该光致抗蚀剂包含聚合物树脂、在曝光于光化辐射时产生催化剂的光催化剂产生剂、以及淬灭剂；

通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射；

执行曝光后烘焙；以及然后

用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除在显影剂中变得可溶解的光致抗蚀剂部分；

其中，聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，而通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得溶解于显影剂中，或者聚合物树脂在曝光于光化辐射之前溶解于显影剂，而通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得基本上不溶解于显影剂中。

2.按照权利要求1所述的方法，其中，光催化剂产生剂是光酸产生剂，其在曝光于光化辐射时产生酸。

3.按照之前任何一项权利要求所述的方法，其中，聚合物树脂包括具有主链和多个受保护的羧酸基团的聚合物

4.按照权利要求3所述的方法，其中，受保护的羧酸基团是酯或酸酐基团。

5.按照之前任何一项权利要求所述的方法，其中，还包括在曝光后烘焙以及显影之后的硬烤。