[发明专利]多层光学记录介质和光学记录方法无效
申请号: | 200680032517.2 | 申请日: | 2006-08-31 |
公开(公告)号: | CN101258546A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 关口洋义;篠塚道明;真贝胜;日比野荣子 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/258 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 光学 记录 介质 方法 | ||
1.一种多层光学记录介质,它包括:
至少多层信息层:
其中所述多层信息层至少包括能够通过激光照射记录信息的相变记录层以及反射层,
其中从激光照射侧看除了最里面信息层之外的每层信息层包括下保护层、相变记录层、上保护层、反射层和透光层,
在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的上保护层和透光层由包含Sn氧化物的材料构成,并且
在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的上保护层的厚度为2nm至15nm。
2.如权利要求1所述的多层光学记录介质,其中在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的上保护层包含50mol%至90mol%的Sn氧化物。
3.如权利要求1至2中任一项所述的多层光学记录介质,其中在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的透光层的厚度为51nm至250nm。
4.如权利要求1至3中任一项所述的多层光学记录介质,其中在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的反射层包含Cu作为主要组分。
5.如权利要求4所述的多层光学记录介质,其中在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的反射层包含以质量计5%或更少的选自Mo、Ta、Nb、Cr、Zr、Ni、Ge和Au中的至少一种金属元素。
6.如权利要求1至5中任一项所述的多层光学记录介质,其中在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的下保护层由包含Sn氧化物的材料构成。
7.如权利要求1至6中任一项所述的多层光学记录介质,其中在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的下保护层由双层层压结构构成,并且两层中的至少一层由包含Sn氧化物材料构成。
8.如权利要求1至7中任一项所述的多层光学记录介质,该多层光学记录介质从激光照射侧看依次具有第一基板、第一信息层、中间层、第二信息层和第二基板,
第一信息层从激光照射侧看依次具有第一下保护层、第一相变记录层、第一上保护层、第一反射层和透光层,并且
第二信息层从激光照射侧看依次具有第二下保护层、第二相变记录层、第二上保护层、第二反射层。
9.一种用于如权利要求1至8中任一项所述的多层光学记录介质的光学记录方法,它包括:
在从激光照射侧看除了最里面层之外的每层信息层中的记录层上反复照射经由记录功率和偏压功率的两个数值调制的脉冲,并且
在形成长度为nT(T:时钟周期,n:2或更大的整数)的记录标记时,将初始脉冲和最后脉冲的上行程之间的间隔Tr设定在下面公式的范围中:
(n-1.5)T≤Tr≤(n-0.5)T。
10.如权利要求9所述的光学记录方法,其中在从激光照射侧看在每层信息层中为第二或外面的记录层中进行记录时,在照射脉冲的数量为m(m为1或更大的整数)时,如果n为偶数,则满足n=2m的关系,并且如果n为奇数,则满足n=2m+1的关系。
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