[发明专利]从气流中去除杂质的设备和方法无效
申请号: | 200680032539.9 | 申请日: | 2006-07-05 |
公开(公告)号: | CN101257959A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 汉斯-彼得·坦登;克里斯蒂娜·伊利格·坦登 | 申请(专利权)人: | APC技术有限公司 |
主分类号: | B01D46/00 | 分类号: | B01D46/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾红霞;张天舒 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 气流 去除 杂质 设备 方法 | ||
1.一种利用过滤设备过滤气流的方法,
所述过滤设备包括:
壳体,其具有入口和出口;
过滤器,其横过所述壳体延伸,由此使得气流穿过所述过滤器,
其中,所述方法包括:
提供含有杂质的气流,所述杂质选自一个群组,所述群组包括水银、硅氧烷、超细颗粒、超细悬浮微粒和雾、气相杂质、重金属、气味物质、放射性物质、爆炸性粉尘和微生物;
为所述过滤设备确定适合于从所述气流中去除所述杂质的过滤介质;
选择气体速度和气体温度,所述选择提供所需的气流控制效果,以便从气流中去除杂质;以及
使气流在选择的速度和温度下通过选择的过滤介质,以便从气流中去除杂质。
2.如权利要求1所述的方法,其中,
所述杂质包括水银,并且确定的所述过滤介质包括活性碳。
3.如权利要求2所述的方法,其中,
所述活性碳固定在过滤基板上。
4.如权利要求3所述的方法,其中,
用额外的成分浸渍所述活性碳,以便增强水银吸附性。
5.如权利要求2所述的方法,其中,
选择的所述气体速度为1至2000英尺/分钟。
6.如权利要求5所述的方法,其中,
选择的所述气体速度为10至200英尺/分钟。
7.如权利要求2所述的方法,其中,
所述过滤介质的厚度为0.2英寸至3英尺。
8.如权利要求2所述的方法,其中,
所述气体温度高达450°F。
9.如权利要求1所述的方法,其中,
所述杂质包括硅氧烷,并且确定的所述过滤介质包括带电介质或活性碳。
10.如权利要求9所述的方法,其中,
选择的所述气体速度为1至1000英尺/分钟。
11.如权利要求1所述的方法,其中,
所述杂质包括超细颗粒,确定的所述过滤介质包括含纤维的介质,选择的所述气体速度为10-2500英尺/分钟。
12.如权利要求1所述的方法,其中,
所述杂质包括超细颗粒,确定的所述过滤介质是带电介质,选择的所述气体速度为250-2500英尺/分钟。
13.如权利要求1所述的方法,其中,
所述气相杂质包括能够用湿式洗涤器有效去除的酸性气体或其它气态杂质,确定的所述过滤介质包括构造成过滤以液态形式被捕获的所述酸性气体的介质,通过在过滤器上游引入水或其它洗涤液体的细雾来将所述气相杂质捕获到细小液滴中或细小液滴上。
14.如权利要求1所述的方法,其中,
所述过滤器包括可移动的过滤器支撑床,所述过滤器支撑床横过所述壳体延伸并且支撑所述过滤器,在所述过滤器装载有杂质时,所述过滤器支撑床和所述过滤器离开所述壳体。
15.如权利要求14所述的方法,其中,
所述过滤设备还包括自清洁系统,在所述装载有杂质的过滤器离开所述壳体时,所述自清洁系统从所述装载有杂质的过滤器上去除滤出的杂质。
16.一种过滤设备,包括:
基本竖直的壳体,其具有上入口和下出口;
水平的可移动的过滤带,其横过所述壳体延伸,使得含有杂质的气流向下流动穿过所述过滤带,以便从气流中去除杂质;
所述过滤设备还包括:自清洁系统,其用于从所述过滤带的伸出所述壳体的部分上去除滤出的杂质。
17.如权利要求16所述的过滤设备,其中,
所述自清洁系统包括:与所述过滤带的脏侧相邻地设置的真空喷嘴或压缩空气喷嘴,所述真空喷嘴与真空源相通,或者所述压缩空气喷嘴与空气供应源相通。
18.如权利要求16所述的过滤设备,其中,
所述过滤带包括适合从气流中去除杂质的过滤介质;
所述杂质选自一个群组,所述群组包括细小颗粒、重金属、放射性成分和微生物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于APC技术有限公司,未经APC技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680032539.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。