[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过光掩模对被曝光体照射曝光光，从而形成曝光图案的曝光装置。更具体来说，涉及一种提高对长方形光掩模照射曝光光的利用效率的曝光装置。

背景技术

如图7所示，在现有曝光装置中，曝光光学系统具有：光源2，其由用于紫外线照射的例如超高压汞灯构成；凹面镜3，其对光源2的照射光进行聚光；圆柱状光学积分器(optical integrator)4，其配置在凹面镜3的焦点附近，用于使光线L在曝光面上的亮度分布均匀；曲面反射镜7，其配置在光学积分器4和保持光掩模5的掩模台架(mask stage)6之间，而且将入射的曝光光变成平行光束导向曝光面；一组平面反射镜8、8，其转换光路；而且，光源2所照射的光线L在曲面反射镜7成为相互平行的光束，即曝光光，该曝光光垂直照射于保持在掩模台架6上的光掩模5(例如，参照专利文献1)。此外，在该图中，附图标记9表示将被曝光体装载在上表面的工作台，附图标记10表示例如由滤色基板构成的被曝光体，附图标记11表示控制曝光光的光路的打开关闭的曝光控制用快门。

专利文献1：JP特开2004-347883号公报(图7)

发明内容

然而，在这种现有曝光装置中，由于从曲面反射镜7射出的光束12的截面形状如图8所示为圆形，所以例如在光掩模5形成为长方形情况下，如该图标注斜线所示的部分的光线L对曝光不起作用被白白浪费，而且照射到长方形光掩模5的曝光光的利用效率低。因此，存在如下问题，即照射被曝光体的曝光光的能量密度小，曝光处理时间长，生产节拍(Tact)慢。

因此，本发明的目的在于提供一种曝光装置，该曝光装置解决这种问题，并用于提高照射长方形光掩模的曝光光的利用效率。

用于解决问题的方法

为了解决上述问题，本发明的曝光装置具有：台架，其在上表面装载被曝光体，掩模台架，其配设在所述台架的上方，而且可与该台架的上表面平行地保持长方形光掩模；光源，其对保持在所述掩模台架上的光掩模放射曝光光；而且，将所述光源放射的曝光光通过所述光掩模照射到所述被曝光体上，从而在规定位置形成规定的曝光图案；其特征在于，在所述光源和掩模台架之间的光路上配设有光束截面形状整形装置，所述光束截面形状整形装置把从所述光源放射的曝光光的光束的截面形状，整形成与所述长方形光掩模的形状一致。

根据这种结构，从光源放射曝光光，用光束截面形状整形装置把从光源放射的曝光光的光束的截面形状整形成与长方形光掩模的形状一致，对保持在掩模台架的光掩模照射该已整形的曝光光，进一步地，将所述曝光光通过所述光掩模照射到装载在台架的上表面的所述被曝光体上，从而在规定位置形成规定的曝光图案。

而且，所述光束截面形状整形装置为柱面透镜，所述柱面透镜对平行光线的入射，仅在正交的两个轴中的一个轴方向起折射作用，并在焦点位置形成线状的射束。这样，用柱面透镜整形光束的截面形状，所述柱面透镜对平行光线的入射，仅在一个轴方向起折射作用，并在焦点位置形成线状的射束。

进一步地，所述光束截面形状整形装置为复眼透镜，所述复眼透镜对平行光线的入射，仅在正交的两个轴中的一个轴方向起折射作用，在焦点位置形成线状的多条射束。这样，用复眼透镜整形光束的截面形状，所述复眼透镜对平行光线的入射，仅在一个轴方向起折射作用，并在焦点位置形成多条射束。

而且，在所述光源和光束截面形状整形装置之间的光路上配设有万花筒，所述万花筒使对所述光掩模照射的曝光光的亮度分布均匀。这样，用配设在光源和光束截面形状整形装置之间光路上的万花筒，使对光掩模照射的曝光光的亮度分布均匀。

而且，在所述光束截面形状整形装置和掩模台架之间的光路上配设有聚光透镜，所述聚光透镜把入射的曝光光作为平行光射出。这样，用配设在光束截面形状整形装置和掩模台架之间光路上的聚光透镜，使入射的曝光光作为平行光射出。

进一步地，当将曝光光照射到装载在所述台架上面的被曝光体进行曝光时，所述台架以平行于所述长方形光掩模的面的方式，沿着与其长度方向正交的方向，输送所述被曝光体。由此，在台架上，当将曝光光照射到装载在其上表面的被曝光体进行曝光时，以平行于长方形光掩模的面的方式，沿着与其长度方向正交的方向，输送被曝光体。

而且，所述长方形光掩模将多个掩模图案沿其长度方向排成一列配置。由此，用长方形光掩模形成规定曝光图案，所述光掩模是将多个掩模图案沿长度方向排成一列配置。

发明效果