[发明专利]成膜装置及成膜方法无效

专利信息
申请号: 200680033249.6 申请日: 2006-07-14
公开(公告)号: CN101263565A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 后藤谦次;川岛卓也;田边信夫;铃木康雄 申请(专利权)人: 株式会社藤仓
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;C03C17/25;C23C18/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种成膜装置,其特征在于,具备:

生成粒径受到控制的液态微粒的机构A,

由对所生成的上述液态微粒一边进行温度控制一边进行引导的空间所构成的机构B,

雾状喷出所引导的上述液态微粒的机构C,以及

由使雾状喷出的上述液态微粒涂敷于被处理体而形成透明导电膜的空间构成的机构D。

2.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,对于上述机构B,对液态微粒进行引导的空间具有防水性,或通过对内表面实施了防水加工处理的间隔部件来与外部隔离。

3.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,对于上述机构B,对液态微粒进行引导的空间通过间隔部件与外部隔离,且具有对温度进行控制,使得上述空间内保持比外部高的温度的机构。

4.一种成膜装置,利用喷雾热分解法在被处理体的一面上形成薄膜,其特征在于,具备:

载置上述被处理体的支承机构,以及

向上述被处理体的一面喷出由上述薄膜的原料溶液构成的雾的喷出机构,

上述喷出机构具有的喷嘴,具有成为雾输入侧的第一部位、和成为雾喷出侧的第二部位,

对于在上述喷嘴中移动的雾的面速度,在将第一部位处的面速度设为V1、将第二部位处的面速度设为V2时,V2>1.5×V1

5.根据权利要求4所述的成膜装置,其特征在于,在上述喷嘴中,将从喷出口侧看到的第一部位的截面积设为E1、第二部位的截面积设为E2时,E1>1.5×E2

6.根据权利要求4所述的成膜装置,其特征在于,在上述喷嘴中,第二部位的形状为狭缝状。

7.根据权利要求4所述的成膜装置,其特征在于,具备:

通过预先雾状喷出原料溶液而生成上述雾的调整室,以及

由使上述雾从上述调整室移动到上述喷嘴的空间所构成的输送机构。

8.根据权利要求4所述的成膜装置,其特征在于,成膜时,使上述喷嘴相对于被处理体的一面在水平方向移动。

9.根据权利要求8所述的成膜装置,其特征在于,在上述喷嘴在水平方向的移动为往复运动的情况下,在折回部的附近,使上述喷嘴在远离被处理体的一面的方向移动。

10.一种成膜方法,利用喷雾热分解方法在基材上成膜,其特征在于,具有:

生成粒径受到控制的液态微粒的步骤,

对所生成的上述液态微粒进行温度控制并在使粒径达到了一致的状态下进行引导的步骤,

雾状喷出被引导的上述液态微粒的步骤,以及

使所喷出的上述液态微粒淀积于基材上而成膜的步骤。

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