[发明专利]微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法

权利要求书

1.一种微光刻投影光学系统，包括：

多个元件，其被设置为将来自物平面的波长为λ的光成像到像平面，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面，

其中，在至少一个位置，所述旋转非对称表面从最佳拟合旋转对称表面偏离至少λ。

2.根据权利要求1的光学系统，其中，所述最佳拟合旋转非对称表面从对应于下面的公式的表面偏离小于或等于约0.1λ：

z=cr21+1-(1+k)c2r2+Σj=2αCjxmyn]]>

其中

j=(m+n)2+m+3n2+1,]]>

z是平行于轴的表面的垂度，c是顶点曲率，k是锥体常量，C_j是单项式x^myⁿ的系数，以及α是整数。

3.根据权利要求1的光学系统，其中，在一个或多个位置，所述旋转非对称表面从所述最佳拟合旋转对称表面偏离大于或等于约10λ。

4.根据权利要求1的光学系统，其中，在一个或多个位置，所述旋转非对称表面从所述最佳拟合旋转对称表面偏离大于或等于约20nm。

5.根据权利要求1的光学系统，其中，所述多个元件定义子午面，并且所述元件相对于所述子午面是镜面对称的。

6.根据权利要求1的光学系统，其中，所述多个元件包括两个反射元件，所述反射元件具有位于光路上的旋转非对称表面。

7.根据权利要求1的光学系统，其中，所述多个元件包括不超过两个的反射元件，所述反射元件具有正的主光线角度放大率。

8.根据权利要求7的光学系统，其中，所述多个元件包括不超过一个的反射元件，所述反射元件具有正的主光线角度放大率。

9.根据权利要求1的光学系统，其中，所述微光刻投影光学系统具有大于或等于约0.2的像侧数值孔径。

10.根据权利要求1的光学系统，其中，所述光学系统在像平面上具有矩形场，并且，其中，在正交方向的每个方向上，所述矩形场在彼此正交的两个方向上都具有大于或等于约1mm的最小尺寸。

11.根据权利要求1的光学系统，其中，在所述像场处的静态畸变为小于或等于约10nm。

12.根据权利要求1的光学系统，其中，在所述像场处的波前误差是小于或等于约λ/14。

13.根据权利要求1的光学系统，其中，所述主光线在物平面上彼此发散。