[发明专利]水处理装置及水处理方法有效
申请号: | 200680033655.2 | 申请日: | 2006-02-28 |
公开(公告)号: | CN101263089A | 公开(公告)日: | 2008-09-10 |
发明(设计)人: | 山崎和幸;坂田和之;中条数美 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | C02F3/20 | 分类号: | C02F3/20;C02F1/72;C02F1/28;C02F3/06;C02F1/32;C02F3/10;C02F1/44;C02F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水处理 装置 方法 | ||
1、一种水处理装置,其特征在于,具备:
将所导入的水用膜进行处理的膜装置(21);和
进行导入所述膜装置(21)的水的前处理的前处理装置,
其中,所述前处理装置包含:
原水槽(1),其填充有聚偏氯乙烯填充物(3),并从外部导入水;
微/纳米气泡发生槽(6),其具有发生包含微米气泡和纳米气泡两者的微/纳米气泡的微/纳米气泡发生器(7),使得在从所述原水槽(1)导入的水中含有所述微/纳米气泡;
水回送装置(5),其将所述微/纳米气泡发生槽(6)内的水的一部分回送到所述原水槽(1);以及
炭水槽(11),其具有搅拌装置(12、13),并填充有炭(15)或合成炭,处理从所述微/纳米气泡发生槽(6)导入的水。
2、如权利要求1所述的水处理装置,其特征在于,具备微/纳米气泡发生辅助剂罐(19),其贮存向所述微/纳米气泡发生槽(6)添加的微/纳米气泡发生辅助剂。
3、如权利要求2所述的水处理装置,其特征在于,所述微/纳米气泡发生辅助剂为醇类或者盐类。
4、如权利要求1所述的水处理装置,其特征在于,
在所述前处理装置的所述炭水槽(11)的后段具有活性炭吸附装置(35)。
5、如权利要求1所述的水处理装置,其特征在于,
所述膜装置(21)包含超滤膜装置(25)、精密过滤膜装置(29)以及反渗透膜装置(31)中的任一个。
6、如权利要求4所述的水处理装置,其特征在于,
所述膜装置(21)包含超滤膜装置(25)、精密过滤膜装置(29)以及反渗透膜装置(31)中的任一个。
7、如权利要求1所述的水处理装置,其特征在于,
其构成超纯净水制造装置或者污水再利用装置的一部分。
8、一种水处理方法,其特征在于,
将含有包含微米气泡和纳米气泡之两者的微/纳米气泡的水导入具有搅拌装置(12、13)并填充有炭(15)或合成炭的水槽(11),
将经所述水槽(11)处理过的水导入膜装置(21),通过所述膜装置(21)进行使用膜的处理。
9、如权利要求8所述的水处理方法,其特征在于,
所述膜装置(21)为超滤膜装置(25)、精密过滤膜装置(29)以及反渗透膜装置(31)中的任一个。
10、如权利要求8所述的水处理方法,其特征在于,
填充在所述水槽(11)中的炭(15)为备长炭,
利用光催化剂槽(26)对经所述膜装置(21)处理过的水进行处理。
11、如权利要求8所述的水处理方法,其特征在于,
作为所述水,使用污水、再利用水以及进行各种处理之前的用水中的任一种。
12、如权利要求8所述的水处理方法,其特征在于,
填充在所述水槽(11)中的炭(15)为备长炭,
利用紫外线照射槽(40)或者紫外线照射装置对经所述膜装置(21)处理过的水进行处理。
13、如权利要求8所述的水处理方法,其特征在于,
其构成超纯净水的制造方法或者污水的再利用方法的一部分。
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