[发明专利]光敏组合物、转印材料、遮光膜及其制备方法、显示装置用滤色器、显示装置用衬底和显示装置

权利要求书

1.一种光敏组合物，其包含含有合金部分和单体的粒子，其中在将所述光敏组合物形成膜之后，所述膜按每1μm干膜厚度计具有2.0以上的光密度。

2.权利要求1的光敏组合物，其中所述粒子包含合金部分和金属部分。

3.权利要求1的光敏组合物，其中所述合金部分包含多种选自金、银、铜、钯、钨、锡和钛中的金属。

4.权利要求1的光敏组合物，其中所述粒子的数均粒径在60至3000nm的范围内。

5.权利要求1的光敏组合物，其中所述粒子在所述组合物中的体积分数在5至70％的范围内。

6.一种转印材料，其包含临时载体和安置到所述临时载体上的光敏层，其中所述光敏层包含权利要求1的光敏组合物。

7.一种遮光膜，其通过将权利要求1的光敏组合物涂敷到衬底上而形成。

8.一种遮光膜，其通过将权利要求6的转印材料的光敏层转移到衬底上而形成。

9.一种显示装置用衬底，其包含权利要求7的遮光膜。

10.一种显示装置用衬底，其包含权利要求8的遮光膜。

11.一种显示装置用滤色器，其包含权利要求9的显示装置用衬底。

12.一种显示装置用滤色器，其包含权利要求10的显示装置用衬底。

13.一种显示装置，其包含权利要求11的显示装置用滤色器。

14.一种显示装置，其包含权利要求12的显示装置用滤色器。

15.一种制备遮光膜的方法，所述方法包括：

通过将权利要求1的光敏组合物涂敷到衬底上，然后干燥涂敷的光敏组合物，形成光敏层；

通过将所述光敏层进行成图案式曝光，然后将曝光的光敏层显影，形成有图案的图像；以及

将所述有图案的图像在150℃或更高的温度进行5分钟以上的热处理。

16.权利要求15的用于制备遮光膜的方法，其中所述热处理在170℃或更高的温度进行10分钟以上。

17.一种用于制备遮光膜的方法，所述方法包括：

将权利要求6的转印材料的光敏层转移到衬底上；

通过将转移的光敏层进行成图案式曝光，然后将曝光的光敏层显影，形成有图案的图像；以及

将有图案的图像在150℃或更高的温度进行5分钟以上的热处理。

18.权利要求17的用于制备遮光膜的方法，其中所述热处理在170℃或更高的温度进行10分钟以上。

19.一种遮光膜，其通过采用权利要求15的方法而制备。

20.一种遮光膜，其通过采用权利要求17的方法而制备。