[发明专利]微光刻曝光系统的光学系统

权利要求书

1.一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，所述光学系统具有光学系统轴(OA)以及由三个双折射元件构成的至少一个元件组(200)，每个双折射元件由光学单轴材料制成并具有非球面，其中：

所述组的第一双折射元件(211，221，511，521，531，541，551，561)具有其光学晶轴的第一取向(ca-1)；

所述组的第二双折射元件(212，222，512，522，532，542，552，562)具有其光学晶轴的第二取向(ca-2)，其中所述第二取向能够被描述为由所述第一取向(ca-1)的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴(OA)旋转90°或其整数倍的角的旋转；以及

所述组的第三双折射元件(213，223，513，523，533，543，553，563)具有其光学晶轴的第三取向(ca-3)，其中所述第三取向能够被描述为由所述第二取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴(OA)旋转90°或其整数倍的角的旋转。

2.一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，所述光学系统具有光学系统轴(OA)以及由三个元件对(651，652，653)构成的至少一个元件组(650，650′，650″，650″′)，每一个元件对由一个双折射元件(651a，652a，653a)和一个属性补偿元件(651b，652b，653b)构成，所述双折射元件由光学单轴材料制成并具有非球面，其中每个双折射元件和属性补偿元件互补为所述元件对(651，652，653)的平面平行几何形状，其中：

所述组(650)的第一双折射元件(651a)具有其光学晶轴的第一取向(ca-1)；

所述组(650)的第二双折射元件(652a)具有其光学晶轴的第二取向(ca-2)，其中所述第二取向能够被描述为由所述第一取向(ca-1)的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴(OA)旋转90°或其整数倍的角的旋转；以及

所述组(650)的第三双折射元件(653a)具有其光学晶轴的第三取向(ca-3)，其中所述第三取向能够被描述为由所述第二取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴(OA)旋转90°或其整数倍的角的旋转。

3.根据权利要求2的光学系统，其特征在于每个补偿元件(651b，652b，653b)也由光学单轴材料制成，其中每个补偿元件(651b，652b，653b)的光学晶轴的取向垂直于光学系统轴(OA)，并且垂直于属性双折射元件(651a，652a，653a)的光学晶轴(ca-1，ca-2，ca-3)。

4.根据前面权利要求中的任一项的光学系统，其特征在于所述双折射元件中的每一个具有其这样的厚度轮廓变化以至于在所述光学系统的给定工作波长处获得毫拉德的最小相位延迟。

5.根据前面权利要求中的任一项的光学系统，其特征在于所有所述三个双折射元件的光学晶轴的取向彼此不同。

6.根据权利要求1至4中的任一项的光学系统，其特征在于第一双折射元件(211，511)和第三双折射元件(213，513)的光学晶轴基本上彼此平行。

7.根据前面权利要求中的任一项的光学系统，其特征在于所述第一、第二和第三双折射元件中的每一个的所述光学晶轴垂直于所述光学系统轴或者平行于所述光学系统轴。

8.根据权利要求1至5中的任一项的光学系统，其特征在于所述双折射元件之一的光学晶轴基本上平行于所述光学系统轴(OA)，并且其余两个双折射元件的光学晶轴基本上垂直于所述光学系统轴(OA)并且绕所述光学系统轴(OA)彼此旋转了30°至60°范围内的角，更优选是40°至50°，进一步优选是45°的角。

9.根据权利要求1至7中的任一项的光学系统，其特征在于所述双折射元件的光学晶轴(ca-1，ca-2，ca-3)垂直于所述光学系统轴(OA)，其中第一双折射元件(211，511，651a)的光学晶轴(ca-1)和第三双折射元件(213，513，653a)的光学晶轴(ca-3)均相对于第二双折射元件(212，512，652a)的光学晶轴(ca-2)绕所述光学系统轴(OA)旋转了30°至60°范围内的角，更优选是40°至50°，进一步优选是45°的角。