[发明专利]用于光致抗蚀剂应用的低活化能溶解改性剂

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，它包括：

在含水碱性显影剂内可溶的聚合物；

光致产酸剂；和

溶解改性剂，所述溶解改性剂疏水且不溶于含水碱性显影剂内，从而抑制聚合物在光致抗蚀剂层的未曝光区域内溶解，和当活化时，变得亲水并可溶于含水碱性显影剂内，从而提高聚合物在光致抗蚀剂层中的曝光区域内溶解。

2.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中通过光致产酸剂释放的酸活化溶解改性剂。

3.权利要求2的光致抗蚀剂组合物，其中溶解改性剂含有通过低活化能的酸不稳定性官能团保护的极性和/或碱可溶的部分。

4.一种光致抗蚀剂组合物，它包括：

在含水碱性显影剂内可溶的聚合物；

光致产酸剂；和

溶解改性剂，所述溶解改性剂用下述结构中的至少一种表示：

其中W和X独立地选自具有1-12个碳原子的亚烷基，和具有1-12个碳原子的氟化亚烷基；

其中P¹、P²、P³、P⁴、P⁵、P⁶、P⁷、P⁸、P⁹、P¹⁰、P¹¹、P¹²、P¹³、P¹⁴和P¹⁵各自独立地选自结构V、结构VI和结构VII：

其中R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷各自独立地选自氢原子、具有4-12个碳原子的烃基、具有4-12个碳原子的取代烃基、具有4-12个碳原子的杂烃基，和具有4-12个碳原子的取代杂烃基；和

其中R¹、R²、R³中的任何两个或者R⁴、R⁵、R⁶中的任何两个可连接形成3-8元环基团。

5.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中所述溶解改性剂用以下结构表示：

6.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中所述溶解改性剂用以下结构表示：

7.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中所述溶解改性剂用以下结构表示：

8.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中所述溶解改性剂用以下结构表示：

9.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，它进一步包括选自环己酮、乳酸乙酯、丙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁内酯及其结合物中的流延溶剂。

10.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中在曝光于紫外辐射线下之前，所述光致抗蚀剂组合物在碱性显影剂中不溶。

11.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中当暴露于波长小于约250纳米的紫外辐射线下时，所述光致产酸剂产生游离酸。

12.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中在所述光致抗蚀剂组合物暴露于紫外辐射线下之后，所述溶解改性剂变得可溶于所述含水碱性显影剂内。

13.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，其中在所述光致抗蚀剂组合物暴露于紫外辐射线下并紧跟着加热到小于或等于约100℃之后，所述溶解改性剂变得可溶于所述含水碱性显影剂内。

14.权利要求4的光致抗蚀剂组合物，它进一步包括流延溶剂，和其中所述光致抗蚀剂组合物包括约8重量％-约15重量％的所述聚合物，约1重量％-约3重量％的所述光致产酸剂，和约10重量％-约20重量％的所述溶解改性剂。