[发明专利]用于制备涂覆底材型体的方法、具有涂层的底材型体及此涂覆底材型体的用途有效
| 申请号： | 200680034526.5 | 申请日： | 2006-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN101305112A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | V·佐特克;D·伦克;H·韦斯特法尔;H·范登伯格 | 申请（专利权）人： | 钴碳化钨硬质合金维迪亚产品有限公司及两合公司 |
| 主分类号： | C23C16/36 | 分类号： | C23C16/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 制备 涂覆底材型体 方法 具有 涂层 底材型体 用途 | ||
1.通过CVD沉积至少一层由元素周期表第IVA至第VIA族金属的碳氮化物组成的层而制备涂覆底材型体的方法，其特征在于，在气氛中存在至少一种有机碳载体和至少一种有机氮载体，其中所述碳载体为单环烃，所述氮载体为腈或胺或杂环烃或它们的混合物。
2.权利要求1的方法，其特征在于，所述腈为乙腈。
3.权利要求1的方法，其特征在于，所述胺为乙胺。
4.权利要求1至3中任一项的方法，其特征在于，所述杂环烃为嘧啶或吡啶或三唑。
5.权利要求1至4中任一项的方法，其特征在于，所述单环烃由苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯和/或环己烷或它们的混合物组成。
6.权利要求1至5中任一项的方法，其特征在于，另外在涂覆过程中向气氛中导入游离态的氮气(N2)和/或一氧化碳(CO)和/或NH3。
7.权利要求1至6中任一项的方法，其特征在于，所述涂层在880℃至970℃的温度下涂覆。
8.权利要求1至7中任一项的方法，其特征在于，涂覆过程中的气氛压力在5kPa至50kPa之间。
9.权利要求1至8中任一项的方法，其特征在于，底材型体由金属、金属陶瓷、硬质合金或陶瓷组成。
10.权利要求9的方法，其特征在于，底材型体由立方氮化硼(CBN)或高速钢组成。
11.权利要求1至10中任一项的方法，其特征在于，所述沉积的层是在底材型体上的单一层，多层中的覆盖层，或中间层。
12.权利要求11的方法，其特征在于，所述单一层或多个沉积层之一具有0.1μm至15μm的厚度。
13.权利要求12的方法，其特征在于，多层涂层的总厚度≤25μm。
14.权利要求1至13中任一项的方法，其特征在于，所述一个或多个沉积层由Ti、Zr、Hf、V或Cr的碳氮化物或它们的混合晶体组成。
15.权利要求1至14中任一项的方法，其特征在于，氮载体(AN)与单环烃(BZ)的比例在2∶1与1∶16之间。
16.权利要求1至15中任一项的方法，其特征在于，腈(AN)与单环烃(BZ)的比例在2∶1与1∶16之间。
17.权利要求5至8中任一项的方法，其特征在于，乙腈(AN)与苯(BZ)的比例在2∶1与1∶16之间。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
