[发明专利]用于对尤其是凹版印刷机擦拭滚筒的滚筒涂层的设备有效

专利信息
申请号: 200680034565.5 申请日: 2006-09-12
公开(公告)号: CN101267944A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 里齐奥·里帕蒙蒂;迪迪埃·迪佩尔蒂;安德烈娅·加尼尼;D·贝尔特希 申请(专利权)人: 卡巴-乔利有限公司
主分类号: B41F9/10 分类号: B41F9/10;B05D3/02;B05C9/14
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人: 张瑾;王黎延
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 用于 尤其是 凹版 印刷机 擦拭 滚筒 涂层 设备
【说明书】:

技术领域

本发明通常涉及一种用于以塑料组合物对滚筒(特别而不是排他地为凹版印刷机的擦拭滚筒)进行涂层的设备以及利用这种设备的方法。

背景技术

在凹版印刷机中,公知的是使用承载凹印刷板的接触印版滚筒的擦拭滚筒,作为擦拭和清洁凹印刷板表面的擦拭设备。这种擦拭滚筒的目的是同时把沉积在印刷板上的油墨压到雕版上,并从印刷板的送气口(plenum)上,即雕版外部印刷板未雕刻区域上的剩余油墨清洁掉。

为了获得良好的打印质量,擦拭滚筒通常设计成这样,即它接触印刷板的外表面在物理和化学上均是有抵抗力的,即适合于经受高接触压力和与印刷板的摩擦,并可抵御与油墨成分和颜料的物理和化学接触,同时还抵御与用来清洁擦拭滚筒表面的清洁液的接触。

已经有人提出这种擦拭滚筒,其中该擦拭滚筒带有弹性合成组合物的外层,即例如聚氯乙烯的热固性塑料组合物。例如,美国专利US 3,785,286、US3,900,595和US 4,054,685公开了用于制造这种擦拭滚筒的方法以及用于实施所述方法的设备。这些公开出版物在本申请中通过参照方式引入,特别是在被用来形成这种滚筒的材料方面以及用于制造这种擦拭滚筒的机器和方法。例如参考在US 4,054,685中描述的涂层设备,提供把要涂层滚筒安装用于围绕旋转轴水平旋转的装置。通过旋转滚筒经过涂层单元来实现涂层,其中该涂层单元包括位于滚筒一侧并与其轴平行延伸的直边缘刮叶片机构,此叶片机构适合于朝向或者离开滚筒运动。该叶片机构包括彼此机械地连接的两个叶片,即下叶片和上叶片,这两个叶片联合设计成能确保把热固性塑料正确供应到待涂层滚筒表面上,并允许进行被沉积材料的厚度调节。叶片机构适合于朝向或离开滚筒运动,同时把下叶片的直缘(即沿着滚筒长度延伸的边缘)保持与滚筒旋转轴平行。塑料提供在上叶片上面的叶片机构,其中上叶片在滚筒涂层期间以相对于滚筒的倾斜关系布置,以便在上叶片上侧和待涂层滚筒周边之间形成储室。提供限制塑料从储室侧向流动的装置。叶片机构可朝向和离开滚筒移动,以在下叶片的直缘和滚筒周边之间沿着滚筒全长保持期望的均匀间距(几个毫米或者更少)。滚筒在一个方向旋转,以使其周边通过叶片机构向下运动,由此向滚筒周边施加塑料组合物的薄均匀层,其中该塑料组合物层具有通过下叶片直缘和滚筒周边之间间距确定的厚度。当滚筒旋转时,此塑料层通过把辐射热施加到滚筒上贯穿滚筒长度而被热固化,以便使塑料沉积层硬化,并形成期望硬度的硬化层。具有不同硬度和厚度的若干层优选的是以此方式形成在滚筒表面上。

根据在US 4,054,685中描述的技术方案,辐射热通过加热元件(例如喷灯或者电阻元件)施加到滚筒上,其中该加热元件沿着滚筒长度并围绕该滚筒周边至少一部分延伸。这些加热元件的位置可相对于滚筒位置进行手动调节,以便在滚筒全长获得基本上均匀的热分布。在涂层工艺前,高温计用来控制沿着滚筒的温度分布,该高温计在滚筒前面手动地移动。一旦加热元件的起始调整已经进行,则高温计在中间位置保持固定并作为用于自动加热控制的传感器,借此温度和时间根据预定程序控制。

上述技术方案的一个缺陷在于,每个加热元件沿着滚筒全长延伸,同时加热控制不能以非常精确的方式沿着滚筒长度进行,特别在滚筒两个端部,在这里由于滚筒旋转和在滚筒周围空气流动而引起的边缘效应,温度上下波动量很大。此外,加热控制根据滚筒表面温度局部测量值进行,即在中间位置,这不能精确反映沿着滚筒全长的温度特性。

美国专利US 5,180,612公开了另一种涂层设备,其中该涂层设备装有以五或者六排、每排八个元件并且每排沿着滚筒长度延伸的矩阵布置的多个离散加热元件(例如瓦片)。每个瓦片弯曲而具有凹面,该凹面朝向滚筒并略微沿着滚筒弧度。瓦片在它们的后端安装在不锈钢反射器上,而该反射器安装在可在滚筒安装位置上或者离开该位置枢轴转动的罩部件内。

供应每个瓦片的电能可通过具有内部照明能力的按钮矩阵显示板而独立地开关,从而这些在任何时刻接通的瓦片通过对应按钮照明而指示。因此在矩阵显示板上按钮的照明状态而显示加热特征。此外,供应给各种瓦片的电能量根据监控滚筒表面温度的三个非接触性红外线(IR)温度传感器的输出来控制。更确切地说,左手侧和右手侧外传感器分别监控在矩阵左手和右手端外围行瓦片的所有三个、两个或者最外面一个。这些矩阵行因此通过外部传感器而独立地控制或者隔离。八列瓦片中在矩阵中间的剩余部分,也就是第四和第五列或者第三到第六列或者第二到第七列的瓦片能够通过位于中心的传感器进行电控制。

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