[发明专利]聚合物膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 200680034664.3 申请日: 2006-09-20
公开(公告)号: CN101267930A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 殿原浩二 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B29C55/08 分类号: B29C55/08;G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363;B29K1/00;B29L7/00;B29L11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种聚合物膜的制备方法,所述方法包括下列步骤:

将含有聚合物和溶剂的流延涂料从流延模流延到载体上,以形成流延 膜;

将所述流延膜以湿膜形式从所述载体上剥离;

将所述湿膜干燥以获得聚合物膜;

将所述聚合物膜收卷为膜卷材;

将所述聚合物膜从所述膜卷材上退卷;

将所述聚合物膜在其横向上拉伸;和

在拉伸过程中进行所述聚合物膜在其纵向上的松弛,

其中当通过拉伸的拉伸比率变为目标值的1%至40%时,进行所述聚 合物膜的松弛。

2.如权利要求1所述的制备方法,其中通过所述松弛,所述聚合物膜 的松弛比率在1%至5%的范围内。

3.如权利要求1所述的制备方法,其中所述拉伸的拉伸比率在10%至 40%的范围内。

4.如权利要求1所述的制备方法,其中所述聚合物是三乙酸纤维素、 乙酸丙酸纤维素和乙酸丁酸纤维素中的一种。

5.如权利要求4所述的制备方法,其中在拉伸后的所述聚合物膜的面 内延迟Re在5nm至150nm的范围内,并且厚度延迟Rth在40nm至250 nm的范围内。

6.如权利要求1所述的制备方法,其中在所述拉伸后的所述聚合物膜 用于光学功能膜。

7.一种聚合物膜的制备方法,所述方法包括下列步骤:

通过熔体挤出由聚合物形成聚合物膜;

将所述聚合物膜收卷为膜卷材;

将所述聚合物膜从所述膜卷材上退卷;

将所述聚合物膜在其横向上拉伸;和

在拉伸过程中进行所述聚合物膜在其纵向上的松弛,

其中当通过拉伸的拉伸比率变为目标值的1%至40%时,进行所述聚 合物膜的松弛。

8.如权利要求7所述的制备方法,其中通过所述松弛,所述聚合物膜 的松弛比率在1%至5%的范围内。

9.如权利要求7所述的制备方法,其中通过拉伸的拉伸比率在10% 至40%的范围内。

10.如权利要求7所述的制备方法,其中所述聚合物是三乙酸纤维素、 乙酸丙酸纤维素和乙酸丁酸纤维素中的一种。

11.如权利要求10所述的制备方法,其中在拉伸后的所述聚合物膜的 面内延迟Re在5nm至150nm的范围内,并且厚度延迟Rth在40nm至 250nm的范围内。

12.如权利要求7所述的制备方法,其中在所述拉伸后的所述聚合物 膜用于光学功能膜。

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