[发明专利]原料供给装置以及成膜装置有效
| 申请号： | 200680034815.5 | 申请日： | 2006-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101268212A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 山崎英亮;河野有美子 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘春成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 原料 供给 装置 以及 | ||
1.一种原料供给装置，用于向成膜装置供给使固体原料升华得到的气体原料，其特征在于，包括：
内部保持所述固体原料的原料容器；
设置在所述原料容器的第一侧的第一加热单元；
设置在所述原料容器的第二侧的第二加热单元；
第一温度控制单元，进行第一处理，控制所述第一加热单元以及所述第二加热单元，使所述第一侧的温度比所述第二侧的温度高，从而使所述固体原料在所述第一侧升华；和
第二温度控制单元，进行第二处理，控制所述第一加热单元以及所述第二加热单元，使所述第二侧的温度比所述第一侧的温度高，从而使所述固体原料在所述第二侧升华。
2.如权利要求1所述的原料供给装置，其特征在于：
所述固体原料含有颗粒直径在1.5mm以下的粉末原料。
3.如权利要求1所述的原料供给装置，其特征在于：
所述原料容器设置有用于将升华的所述固体原料供给至所述成膜装置的载体气体的供给路。
4.如权利要求1所述的原料供给装置，其特征在于：
所述固体原料由有机金属原料构成。
5.一种成膜装置，其特征在于，包括：
在内部保持被处理基板的处理容器；以及
原料供给装置，用于使固体原料升华从而生成向所述被处理基板进行成膜用的气体原料，并向所述处理容器供给，其中，所述原料供给装置包括：
内部保持所述固体原料的原料容器；
设置在所述原料容器的第一侧的第一加热单元；
设置在所述原料容器的第二侧的第二加热单元；
第一温度控制单元，进行第一处理，控制所述第一加热单元以及所述第二加热单元，使所述第一侧的温度比所述第二侧的温度高，从而使所述固体原料在所述第一侧升华；以及
第二温度控制单元，进行第二处理，控制所述第一加热单元以及所述第二加热单元，使所述第二侧的温度比所述第一侧的温度高，从而使所述固体原料在所述第二侧升华。
6.如权利要求5所述的成膜装置，其特征在于：
所述固体原料含有颗粒直径在1.5mm以下的粉末原料。
7.如权利要求5所述的成膜装置，其特征在于：
所述原料容器设置有用于将所述气体原料供给至所述处理容器的载体气体的供给路。
8.如权利要求5所述的成膜装置，其特征在于：
所述固体原料由有机金属原料构成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680034815.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
