[发明专利]潜伏性催化剂的制造方法和环氧树脂组合物

权利要求书

1.硅酸鏻潜伏性催化剂的制造方法，其包括使由下述式(1)表示的质子供体(A)、三烷氧基硅烷化合物(B)和由下述式(2)表示的磷鎓盐化合物(D)反应，其中所述反应在金属醇盐化合物(C)存在的条件下进行：

[化学式1]

HY¹-Z¹-Y²H    (1)

其中Y¹和Y²可以相同或不同，并各自表示由供给质子的取代基通过释放质子而得到的基团，Z¹代表取代或未取代的有机基团，其与供给质子的取代基Y¹H和Y²H键合，且在同一分子中的两个取代基Y¹和Y²能与硅原子键合形成螯合结构；

[化学式2]

其中R¹、R²、R³和R⁴可以相同或不同，并各自表示具有取代的或未取代的芳香环或杂环的有机基团，或表示取代或未取代的脂肪族基团，且X^-代表卤离子、氢氧根离子或由供给质子的基团通过释放质子而得到的阴离子。

2.根据权利要求1所述的硅酸鏻潜伏性催化剂的制造方法，其中由式(1)表示的质子供体(A)和三烷氧基硅烷化合物(B)可以在金属醇盐化合物(C)存在下在有机溶剂中预先反应。

3.根据权利要求1或2所述的硅酸鏻潜伏性催化剂的制造方法，其中所述由式(1)表示的质子供体(A)是由下述式(3)表示的芳香二羟基化合物：

[化学式3]

HO-Ar¹-OH    (3)

其中Ar¹表示具有取代的或未取代的芳香环或杂环的有机基团，由有机基团Ar¹上的两个OH基团通过释放质子得到的两个氧阴离子能与硅原子键合形成螯合结构。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的硅酸鏻潜伏性催化剂的制造方法，其中所述由式(2)表示的磷鎓盐化合物(D)是由下述式(4)表示的季磷鎓盐化合物：

[化学式4]

其中R⁵、R⁶、R⁷和R⁸可以相同或不同，并各自表示选自氢原子、甲基、甲氧基和羟基中的一种基团，且X^-代表卤离子、氢氧根离子或由供给质子的基团通过释放质子而得到的阴离子。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的硅酸鏻潜伏性催化剂的制造方法，其中所述硅酸鏻潜伏性催化剂是由下述式(5)表示的硅酸鏻化合物：

[化学式5]

其中R⁹、R¹⁰、R¹¹和R¹²可以相同或不同，并各自表示具有取代的或未取代的芳香环或杂环的有机基团，或表示取代或未取代的脂肪族基团，Y³、Y⁴、Y⁵和Y⁶各自表示由供给质子的取代基通过释放质子而得到的基团，Z²代表取代或未取代的有机基团，其与Y³和Y⁴键合，且在同一分子中的两个取代基Y³和Y⁴能与硅原子键合形成螯合结构，Z³代表取代或未取代的有机基团，其与Y⁵和Y⁶键合，且在同一分子中的两个取代基Y⁵和Y⁶能与硅原子键合形成螯合结构，且A¹代表有机基团。