[发明专利]荧光显微镜

权利要求书

1.一种荧光显微镜，包含：带有设计成发出激发光的激发光源的外壳；将激发光与由荧光物质生成的荧光分开的滤光器件；物镜；基片座；位置敏感光检测器；和用于该位置敏感光检测器的成像透镜，还包含基片，该基片含有由适合光刻处理技术的材料制成的基于晶片的过滤膜，其中，该过滤膜包含通过光刻引入的连续孔眼的图案，所述连续孔眼的尺寸在0.1-1微米的范围内。

2.根据权利要求1所述的荧光显微镜，其中，所述基片由硅、硅化合物、蓝宝石、硅酸盐玻璃或它们的组合组成。

3.根据权利要求2所述的荧光显微镜，其中，所述基片包含硅。

4.根据权利要求3所述的荧光显微镜，其中，所述基片含有渗氮或渗碳表面。

5.根据权利要求2所述的荧光显微镜，其中，所述基片包含碳化硅或二氧化硅。

6.根据权利要求2到5的任何一项所述的荧光显微镜，其中，在所述基片表面的至少一侧上涂敷有金属层。

7.根据权利要求1-5中的任何一项所述的荧光显微镜，包含：锐聚焦控制系统，被设计成用于输入所述基片在三个非共线点上的聚焦距离，所述锐聚焦控制系统根据该聚焦距离确定锐聚焦面。

8.根据权利要求1-5中的任何一项所述的荧光显微镜，进一步包含：聚焦照射系统，其含有被设计成发出聚焦光的聚焦光源，其中，所述聚焦光的光路和荧光的光路同轴地经由所述物镜通向所述基片。

9.根据权利要求8所述的荧光显微镜，进一步包含：部分透过聚焦光、且以将来自所述基片的光引向所述光检测器的方式被放置在所述聚焦光的光路中的部分透射镜。

10.根据权利要求9所述的荧光显微镜，进一步包含：位于所述部分透射镜与所述聚焦光源之间、且具有比荧光辐射低的激发光透射率的滤光片。

11.根据权利要求8所述的荧光显微镜，其中，所述聚焦光源只有当使所述基片上的样品聚焦时才发出聚焦光。

12.一种利用根据前面权利要求的任何一项所述的荧光显微镜来检测基片上的样品的荧光的方法，包含：

用激发光照射基片上的样品；和

检测来自该样品的荧光。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，从所述基片上的样品的许多分区的每一个中检测荧光，然后根据在分区中检测到的荧光确定相关图像信息，所述分区是从所述样品中随机选择的，其中，如果当前测量的来自所有分区的相关图像信息总体上超过预定置信水平阈值，则中断荧光的测量。

14.一种用在根据权利要求1-10的任何一项所述的荧光显微镜中的基片，包含由适合光刻处理技术的材料制成的基于晶片的过滤膜，其中，该过滤膜包含通过光刻引入的连续孔眼的图案，在该基片表面的至少一侧上涂敷有金属层。

15.一种制造根据权利要求14所述的基片的方法，包含如下步骤：提供基于晶片的过滤膜，通过光刻技术为该过滤膜提供孔眼，然后在该过滤膜的至少一侧上涂敷金属层。