[发明专利]数字曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及数字曝光装置，特别是涉及在记录介质的两面进行数字曝光的两面数字曝光装置。

背景技术

以往，在印刷电路衬底的电路图案形成或SR形成的模拟量产两面自动生产线中，因为用1台曝光机装填一个掩膜，在衬底的单面曝光，所以通常用曝光机+表背反转机+曝光机的串联结构即2台曝光机和1台表背反转机构筑生产线(例如参照专利文献1)。

如上所述，使用掩膜在衬底的两面进行曝光的所谓模拟方式的曝光装置中，使用与照片的放大同样的原理，所以无法进行只将曝光区域的一部分放大、缩小、变形等的加工处理。此外，在曝光的前级进行衬底的对位，对该衬底进行曝光，所以具有无法对多个衬底同时进行并行处理的缺点。

另一方面，在使用数字光学系统、用根据图像数据调制的光束对衬底进行曝光的所谓数字曝光机中，在曝光时不需要掩膜，只用表背面的数据的交换就能曝光，所以如果在1台曝光机上连接使衬底反转的反转机，则仅此就能进行两面曝光。

可是，数字曝光机与模拟曝光机相比，光源、数字光学系统(DMD、多面体等)和图像处理系统的功能所需的成本高，所以具有如下缺点：用2台曝光机的串联结构组成系统时的成本与用1台曝光机构成的两面曝光系统相比，大幅度提高(例如参照专利文献2)。

例如如图14所示，用曝光机402将表面曝光，输送的衬底401被反转机将表背反转，用曝光机406将背面曝光，由此能对表背两面进行曝光。

可是，在专利文献2的结构中，生产线整体需要2台高价的曝光机，所以作为两面系统，成为成本高的系统。

如上所述，以往，曝光处理能力和装置的成本通常为折衷选择的关系，但是本发明为了解决所述课题而提出，其目的在于提供一种低成本且处理能力高的数字曝光装置。

专利文献1：特开2004-205632号公报

专利文献2：特开2002-341550号公报

发明内容

本发明考虑所述事实而提出，其目的在于提供一种低成本且处理能力高的数字曝光装置。

根据本发明的一个方式，提供一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与基于所述曝光单元的所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转。

根据本发明的其他方式，提供一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与基于所述曝光单元的所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转，所述曝光单元具有载置被曝光的所述记录介质且往复移动的曝光台，在所述曝光台上，第n片记录介质结束表面曝光后，位于所述第一待机台上的第n+1片所述记录介质和所述第n片记录介质分别同时由所述输送单元输送到所述曝光台和所述第二待机台，所述第n+1片记录介质在所述曝光台上将表面曝光的过程中，所述第n片记录介质从所述第二待机台输送到所述反转单元，背表反转后，再次输送到所述第二待机台，在结束了表面曝光的所述第n+1片记录介质输送到所述第一待机台的同时，所述第n片记录介质输送到所述曝光台，接着，所述第n片记录介质在所述曝光台上将背面曝光，背面曝光结束后的所述第n片记录介质从所述曝光台经由所述第二待机台向机外输出，并且所述第n+1片记录介质通过所述曝光台输送到所述第二待机台，进而，第n+2片记录介质向所述第一待机台输入。