[发明专利]双电层电容器用集电体、双电层电容器用电极、以及双电层电容器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200680037566.5 申请日: 2006-10-10
公开(公告)号: CN101283420A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: 大森将弘 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: H01G9/016 分类号: H01G9/016;H01G9/058
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 段承恩;田欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双电层 电容 器用 集电体 电极 以及 电容器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种双电层电容器用集电体,具有导电性薄片和在其上具备的含有离子透过性化合物和碳微粒子a的皮膜a。

2.根据权利要求1所述的双电层电容器用集电体,其中,导电性薄片为铝箔、铝腐蚀箔或铝穿孔箔。

3.根据权利要求1或2所述的双电层电容器用集电体,其中,离子透过性化合物是对有机溶剂没有溶胀性的化合物。

4.根据权利要求1~3的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,离子透过性化合物是在利用有机溶剂进行的摩擦剥离试验中不产生剥离的化合物。

5.根据权利要求1~4的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,离子透过性化合物的氟离子透过率为1×10-2S/cm以上。

6.根据权利要求1~5的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,离子透过性化合物的平均分子量为5万以下。

7.根据权利要求1~6的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,离子透过性化合物是多糖类或使多糖类交联而成的化合物。

8.根据权利要求1~6的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,离子透过性化合物是采用丙烯酰胺、丙烯腈、脱乙酰壳多糖吡咯烷酮羧酸盐、羟基丙基脱乙酰壳多糖、苯二甲酸酐、马来酸酐、偏苯三酸酐、苯均四酸酐、酸酐中的任一种对多糖类进行交联而成的化合物。

9.根据权利要求7或8所述的双电层电容器用集电体,其中,多糖类是脱乙酰壳多糖或甲壳质。

10.根据权利要求1~9的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,皮膜a在胶带剥离试验(JIS D0202-1988)中不剥离。

11.根据权利要求1~10的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,皮膜a是通过热固化来获得的。

12.根据权利要求1~11的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,皮膜a中还含有活性碳a。

13.根据权利要求1~12的任一项所述的双电层电容器用集电体,其中,碳微粒子a为针状或棒状。

14.一种双电层电容器用电极,具有权利要求1~13的任一项所述的双电层电容器用集电体和在该集电体的皮膜a上具备的含有粘合剂、碳微粒子b以及活性碳b的皮膜b。

15.根据权利要求14所述的双电层电容器用电极,其中,碳微粒子b为针状或棒状。

16.根据权利要求14或15所述的双电层电容器用电极,其中,活性碳b的BET比表面积为800~2500m2/g。

17.根据权利要求14~16的任一项所述的双电层电容器用电极,其中,粘合剂含有离子透过性化合物。

18.一种双电层电容器用集电体的制造方法,包括:将离子透过性化合物和碳微粒子a分散或溶解在溶剂中而成的液体涂布于导电性薄片并进行干燥,从而形成皮膜a的工序。

19.根据权利要求18所述的双电层电容器用集电体的制造方法,其中,离子透过性化合物的氟离子透过率为1×10-2S/cm以上。

20.根据权利要求18或19所述的双电层电容器用集电体的制造方法,其中,离子透过性化合物的平均分子量为5万以下。

21.根据权利要求18~20的任一项所述的双电层电容器用集电体的制造方法,其中,离子透过性化合物是多糖类或使多糖类交联而成的化合物。

22.根据权利要求18~20的任一项所述的双电层电容器用集电体的制造方法,其中,离子透过性化合物,是采用丙烯酰胺、丙烯腈、脱乙酰壳多糖吡咯烷酮羧酸盐、羟基丙基脱乙酰壳多糖、苯二甲酸酐、马来酸酐、偏苯三酸酐、苯均四酸酐、酸酐中的任一种对多糖类进行交联而成的化合物。

23.根据权利要求18~22的任一项所述的双电层电容器用集电体的制造方法,其中,碳微粒子a为针状或棒状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社,未经昭和电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680037566.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top