[发明专利]纳米颗粒有效

专利信息
申请号: 200680037939.9 申请日: 2006-08-14
公开(公告)号: CN101365828A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 奈杰尔·皮克特;史蒂文·丹尼尔斯;保罗·奥布赖恩 申请(专利权)人: 纳米技术有限公司
主分类号: C30B7/00 分类号: C30B7/00;B82B3/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 吴小明
地址: 英国曼*** 国省代码: 英国;GB
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 纳米 颗粒
【权利要求书】:

1.一种用于生产纳米颗粒的方法,所述纳米颗粒由包括核心半导体材料的核心、提供在所述核心上的包括第一半导体材料的第一层和提供在所述第一层上的包括第二半导体材料的第二层组成,所述核心半导体材料不同于所述第一半导体材料并且所述第一半导体材料不同于所述第二半导体材料,其中所述方法包括:实现纳米颗粒核心前体组合物向所述纳米颗粒核心材料的转化,将所述第一层沉积在所述核心上和将所述第二层沉积在所述第一层上,所述核心前体组合物包括第一前体物质和单独的第二前体物质,所述第一前体物质含有要掺入到生长的纳米颗粒核心中的第一离子,所述第二前体物质含有要掺入到生长的纳米颗粒核心中的第二离子,所述转化是在容许纳米颗粒核心的引晶和生长的条件下在分子簇化合物存在下实现的,其中所述分子簇为[HNEt3]4[Zn10S4(SPh)16]或[HNEt3]2[Zn4(SPh)10]。

2.根据权利要求1的方法,其中簇化合物的摩尔数相比于所述第一和第二前体物质的总摩尔数的比率在0.0001-0.1∶1的范围内。

3.根据权利要求1的方法,其中簇化合物的摩尔数相比于所述第一和第二前体物质的总摩尔数的比率在0.001-0.1∶1的范围内。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中所述第一前体物质对于所述第二前体物质的摩尔比在100-1∶1的范围内。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中所述第一前体物质对于所述第二前体物质的摩尔比在50-1∶1的范围内。

6.根据权利要求1的方法,其中将所述分子簇化合物和核心前体组合物在第一温度分散在适合的分散介质中,并且然后将含有所述簇化合物和核心前体组合物的分散介质的温度升高到足以引发所述纳米颗粒核心在所述化合物的分子簇上引晶和生长的第二温度。

7.根据权利要求6的方法,其中所述第一温度在50℃至100℃的范围内。

8.根据权利要求6的方法,其中所述第一温度在70℃至80℃的范围内。

9.根据权利要求6的方法,其中所述第一温度为75℃。

10.根据权利要求6的方法,其中所述第二温度在120℃至280℃的范围内。

11.根据权利要求6的方法,其中所述第二温度在150℃至250℃的范围内。

12.根据权利要求6的方法,其中所述第二温度为200℃。

13.根据权利要求1的方法,其中所述方法包括:

a.在第一温度在适合的分散介质中分散所述分子簇化合物和初始部分的所述纳米颗粒核心前体组合物,所述初始部分的纳米颗粒核心前体组合物小于要用于产生所述纳米颗粒核心的核心前体组合物的总量;

b.将含有所述簇化合物和核心前体组合物的分散介质的温度升高至足以在所述分子簇化合物的分子簇上引发所述纳米颗粒核心的引晶和生长的第二温度;和

c.将另外的一个或多个部分的所述核心前体组合物添加到含有所述生长的纳米颗粒核心的分散介质中,

其中在添加所述另外的一个或多个部分的纳米颗粒核心前体组合物以前、期间和/或以后,升高含有所述生长的纳米颗粒核心的分散介质的温度。

14.根据权利要求13的方法,其中含有所述生长的纳米颗粒核心的分散介质的温度以0.05℃/min至1℃/min范围内的速率升高。

15.根据权利要求13的方法,其中含有所述生长的纳米颗粒核心的分散介质的温度以0.2℃/min的速率升高。

16.根据权利要求13的方法,其中所述第一温度在15℃至60℃的范围内。

17.根据权利要求13的方法,其中所述第二温度在90℃至150℃的范围内。

18.根据权利要求13的方法,其中将所述另外的一个或多个部分的纳米颗粒核心前体组合物逐滴添加至含有生长的纳米颗粒核心的分散介质中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳米技术有限公司,未经纳米技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680037939.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top