[发明专利]具有均匀磁场分布的自适应耦合等离子体源和具有该等离子体源的等离子体室

权利要求书

1.一种自适应耦合等离子体源，包括：

平板形衬套，在反应室的中心区域设置于反应室上方；

多个上部线圈，从该衬套伸出以设置于该反应室的上方，以便螺旋状地围绕所述衬套；以及

多个侧部线圈，设置在所述反应室的侧壁部分的周围，以围绕在所述反应室的外周。

2.根据权利要求1所述的自适应耦合等离子体源，其中，所述多个侧部线圈被设置为彼此在垂直方向上间隔开预定的距离。

3.根据权利要求1所述的自适应耦合等离子体源，其中，所述侧部线圈由银、铜、铝、金或铂制成。

4.一种等离子体室，包括：

室外壳，限定在其中产生等离子体的反应空间；

平板形晶片支撑，设置于所述反应空间的下部区域中，适于在其上支撑晶片；

连接于所述平板形晶片支撑的下射频电源；

自适应耦合等离子体源，包括：在所述室外壳的中心区域设置于所述室外壳上方的平板形衬套；多个上部线圈，从所述衬套伸出以设置于所述室外壳的上方，以便螺旋状地围绕所述衬套；以及多个侧部线圈，在所述室外壳的侧壁部分的周围设置以围绕所述室外壳；以及

连接于所述衬套的上射频电源。

5.根据权利要求4所述的等离子体室，其中，所述多个侧部线圈被设置为彼此在垂直方向上间隔开预定的距离。

6.根据权利要求4所述的等离子体室，其中，所述侧部线圈由银、铜、铝、金或铂制成。

7.根据权利要求4所述的等离子体室，其中，所述侧部线圈被连接到所述上射频电源。

8.根据权利要求4所述的等离子体室，进一步包括连接到所述侧部线圈的单独的电源。