[发明专利]用于使表面平坦化的组合物及方法无效
申请号: | 200680039664.2 | 申请日: | 2006-09-21 |
公开(公告)号: | CN101297009A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 王育群;贾森·阿吉奥;陆斌;约翰·帕克;周仁杰 | 申请(专利权)人: | 卡伯特微电子公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01L21/321 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 表面 平坦 组合 方法 | ||
1.一种用于抛光在表面上具有含铜膜的基板的化学-机械抛光组合物,其包含:
(a)0.01重量%至20重量%的α-氧化铝颗粒,其中所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的平均直径,且80%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径;
(b)有机酸;
(c)腐蚀抑制剂;及
(d)水。
2.权利要求1的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的平均直径,且90%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径。
3.权利要求2的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有100nm或更小的平均直径,且95%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径。
4.权利要求3的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有100nm或更小的平均直径,且90%的所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的直径。
5.权利要求1的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒以0.1重量%至5重量%的量存在。
6.权利要求5的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒以0.3重量%至1重量%的量存在。
7.权利要求1的抛光组合物,其中该抛光组合物具有3至10的pH。
8.权利要求1的抛光组合物,其中该腐蚀抑制剂选自1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑及其混合物。
9.权利要求1的抛光组合物,其中该有机酸选自丙二酸、丁二酸、己二酸、乳酸、苹果酸、柠檬酸、甘氨酸、天冬氨酸、酒石酸、葡萄糖酸、亚氨基二乙酸及反丁烯二酸。
10.权利要求9的抛光组合物,其中该有机酸为酒石酸。
11.权利要求1的抛光组合物,其进一步包含氧化剂,该氧化剂选自溴酸盐、亚溴酸盐、氯酸盐、亚氯酸盐、过氧化氢、次氯酸盐、碘酸盐、单过氧硫酸盐、单过氧亚硫酸盐、单过氧磷酸盐、单过氧连二磷酸盐、单过氧焦磷酸盐、有机-卤-氧基化合物、过碘酸盐、高锰酸盐、过氧乙酸及其混合物。
12.一种用于抛光在表面上具有含铜膜的基板的化学-机械抛光组合物,其包含:
(a)0.01重量%至20重量%的α-氧化铝颗粒;
(b)有机酸;
(c)三唑和苯并三唑的双重腐蚀抑制剂,其中该三唑与苯并三唑的重量百分比之比为0.1至4.8;及
(d)水。
13.权利要求12的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的平均直径,且80%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径。
14.权利要求13的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的平均直径,且90%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径。
15.权利要求14的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有100nm或更小的平均直径,且95%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径。
16.权利要求15的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒具有100nm或更小的平均直径,且90%的所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的直径。
17.权利要求12的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒以0.1重量%至5重量%的量存在。
18.权利要求17的抛光组合物,其中所述α-氧化铝颗粒以0.3重量%至1重量%的量存在。
19.权利要求12的抛光组合物,其中该抛光组合物具有3至10的pH。
20.权利要求12的抛光组合物,其中该有机酸选自丙二酸、丁二酸、己二酸、乳酸、苹果酸、柠檬酸、甘氨酸、天冬氨酸、酒石酸、葡萄糖酸、亚氨基二乙酸及反丁烯二酸。
21.权利要求20的抛光组合物,其中该有机酸为酒石酸。
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