[发明专利]使光均匀化的装置

权利要求书

1.一种用于使光均匀化的装置，包括：

-至少一个光学功能面(2)，要均匀化的光可以穿过所述光学 功能面；

-多个凹和凸的柱面透镜(5，6)，它们交替地相邻排列在所述 至少一个光学功能面(2)上；

-凹和凸的柱面透镜(5，6)之间的至少一个第一种实施方式的 过渡区域(4a)以及凹和凸的柱面透镜(5，6)之间的与第一种实施 方式不同的至少一个第二种实施方式的过渡区域(4b)；

其特征在于，凹和凸的柱面透镜(5，6)之间的过渡区域(4a， 4b)被构造为使得穿过凹和凸的柱面透镜(5，6)之间的不同实施方 式的过渡区域(4a，4b)的要均匀化的光的子射线相互间具有一个光 学行程差，这个光学行程差有助于减弱被均匀化的光(8)中的干涉效 应。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述至少一个光 学功能面(2)上，第一和第二种实施方式的过渡区域(4a，4b)相互 交替排列。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，凹和凸的柱面 透镜(5，6)之间的第二种实施方式的过渡区域(4b)比第一种实施 方式的过渡区域(4a)更陡峭。

4.如权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，凹和 凸的柱面透镜(5，6)之间的第二种实施方式的过渡区域(4b)比第 一种实施方式的过渡区域(4a)具有相对于类似正弦形的形状的更大 的偏离。

5.如权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，凹和 凸的柱面透镜(5，6)之间的第二种实施方式的过渡区域(4b)在要 均匀化的光的传播方向上的延伸长度(H₂)大于第一种实施方式的过 渡区域(4a)的延伸长度(H₁)。

6.如权利要求5所述的装置，其特征在于，第二种实施方式的 过渡区域(4b)在要均匀化的光的传播方向上的延伸长度(H₂)与第 一种实施方式的过渡区域(4a)的延伸长度(H₁)之差(ΔH)在要均 匀化的光的波长为λ时按下式进行选取：ΔH=H2-H1=λ/2n-1,]]>其中n为 构成光学功能面(2)的材料的折射率。

7.如权利要求1至6中任一项所述的装置，其特征在于，凹和 凸的柱面透镜(5，6)之间的过渡区域(4a，4b)被构造为使得不仅 第二种实施方式的过渡区域(4b)、而且第一种实施方式的过渡区域 (4a)都可能在要均匀化的光的远场中产生强度峰值(11，12)，但 其中这些强度峰值(11，12)在远场的强度分布中相互错开，从而可 以形成均匀的强度分布。

8.如权利要求1至7中任一项所述的装置，其特征在于，凹和 凸的柱面透镜(5，6)之间的过渡区域(4a，4b)被构造为使得穿过 凹和凸的柱面透镜(5，6)之间的不同实施方式的过渡区域(4a，4b) 的要均匀化的光的子射线的光学行程差大致等于要均匀化的光的半波 长或半波长的奇数倍。