[发明专利]用于提供减小表面积的电极的半导体器件和方法无效
申请号: | 200680040209.4 | 申请日: | 2006-10-24 |
公开(公告)号: | CN101611495A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 保罗·W·布拉齐斯;丹尼尔·R·加莫塔;克里希纳·卡利亚纳孙达拉姆;张婕 | 申请(专利权)人: | 摩托罗拉公司 |
主分类号: | H01L29/76 | 分类号: | H01L29/76;H01L21/335 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 穆德骏;黄启行 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 提供 减小 表面积 电极 半导体器件 方法 | ||
1.一种半导体器件,包括:
栅电极;
至少第一电极,其至少部分地与栅电极重叠,由此形成相应的晶 体管沟道,其中所述第一电极具有贯穿其中的至少一个特意形成的开 口,由此减小第一电极的表面积并由此减小相应的寄生电容。
2.权利要求1的半导体器件,其中所述至少一个特意形成的开口 远离晶体管沟道。
3.权利要求1的半导体器件,其中所述第一电极具有贯穿其中的 多个特意形成的开口,由此减小第一电极的表面积并由此减小相应的 寄生电容。
4.权利要求3的半导体器件,其中所述多个特意形成的开口具有 彼此大致相等的尺寸。
5.权利要求3的半导体器件,其中所述多个特意形成的开口具有 彼此大致相同的形状。
6.权利要求3的半导体器件,其中所述多个特意形成的开口具有 彼此大致不同的尺寸。
7.权利要求3的半导体器件,其中所述多个特意形成的开口具有 彼此大致不同的形状。
8.权利要求1的半导体器件,其中所述至少一个特意形成的开口 包括了第一电极的表面积的至少百分之十的减小。
9.权利要求8的半导体器件,其中所述至少一个特意形成的开口 包括了第一电极的表面积的至少百分之五十的减小。
10.权利要求1的半导体器件,进一步包括:
至少第二电极,其也至少部分地与栅电极重叠,由此进一步形成 晶体管沟道,其中所述第二电极具有贯穿其中的至少一个特意形成的 开口,由此减小第二电极的表面积并由此减小相应的寄生电容。
11.权利要求1的半导体器件,其中所述半导体器件包括印刷半 导体器件,所述栅电极包括印刷栅电极,所述第一电极包括第一印刷 电极。
12.一种形成半导体器件的方法,包括:
印刷栅电极
印刷第一印刷电极,该第一印刷电极至少部分地与栅电极重叠, 由此形成相应的晶体管沟道,其中所述第一印刷电极具有贯穿其中的 至少一个特意形成的开口,由此减小第一印刷电极的表面积并由此减 小相应的寄生电容。
13.权利要求12的方法,其中,印刷第一印刷电极进一步包括印 刷第一印刷电极以在最初就包括贯穿其中的至少一个特意形成的开 口。
14.权利要求12的方法,其中,印刷第一印刷电极进一步包括去 除印刷材料,由此形成贯穿其中的至少一个特意形成的开口。
15.权利要求12的方法,其中,印刷第一印刷电极包括远离晶体 管沟道形成贯穿其中的至少一个特意形成的开口。
16.权利要求12的方法,其中,印刷第一印刷电极进一步包括印 刷第一印刷电极,该第一印刷电极至少部分地与栅电极重叠,由此形 成相应的晶体管沟道,其中所述第一印刷电极具有贯穿其中的多个特 意形成的开口,由此减小第一印刷电极的表面积并由此减小相应的寄 生电容。
17.权利要求12的方法,进一步包括:
至少印刷第二印刷电极,该第二印刷电极也至少部分地与栅电极 重叠,由此进一步形成晶体管沟道,其中所述第二印刷电极具有贯穿 其中的至少一个特意形成的开口,由此减小第二印刷电极的表面积并 由此减小相应的寄生电容。
18.一种装置,包括:
印刷栅电极;
至少第一印刷电极,其具有至少部分地与印刷栅电极重叠的确定 的周界,由此形成相应的晶体管沟道,其中,尽管确定了周界,所述 第一印刷电极包括用以减小第一印刷电极的表面积的措施,由此减小 相应的寄生电容。
19.权利要求18的装置,其中所述的用以减小第一印刷电极的表 面积的措施包括贯穿第一印刷电极的至少一个特意形成的开口。
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