[发明专利]用于产生磁场的线圈无效

专利信息
申请号: 200680040607.6 申请日: 2006-10-18
公开(公告)号: CN101300647A 公开(公告)日: 2008-11-05
发明(设计)人: S·雷克;T·布朗;J·威佐瑞克 申请(专利权)人: 特里托尔有限公司
主分类号: H01F6/06 分类号: H01F6/06
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 代理人: 郑建晖;杨勇
地址: 德国莱*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 产生 磁场 线圈
【权利要求书】:

1.一种用于产生磁场的线圈(10),具有至少一个绕组(12,112a,112b,212,312a,312b,412),该绕组由一种超导体的重叠的多匝制成并封装在一种塑料内,该绕组具有一个绕组末端(19),该绕组末端布置在该绕组(12,112a,112b,212,312a,312b,412)的外周(13,113a,113b)上被用来作为一个电导体(15,215)的一个触点,其特征在于,该触点具有一个导电的连接片(30,130,150,230,330,350),该连接片具有一个底部区域(31,131,231,431),该底部区域在一定的面积上与该绕组末端(19)连接,该连接片还具有用来与该导体(15,215)连接的一个顶部区域(32,232,432),该连接片(30,130,150,230,330,350)的底部区域(31,131,231,431)具有多个支腿(33,34,233,234,433,434),这些支腿直接安置在该绕组末端上并且至少在径向上被一个加固插件(14,214,314a,314b,414a,414b)部分地覆盖,该加固插件被封装入该塑料(20,120,220,320)中并且至少部分地包围该绕组(12,112a,112b,212,312a,312b,412)。

2.根据权利要求1所述的线圈,其特征在于该加固插件(14,214)与该连接片(30,230)一起完全包围该绕组(12,212)。

3.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于该加固插件(14,214,314a,314b,414a,414b)与该连接片(30,130,150,230,330,350)形成一个内在地封闭的应力缓解装置。

4.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于该加固插件(314a,314b)包括一个包围该绕组(312a,312b)的环。

5.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于这些支腿(33,34,233,234,433,434)被布置在该底部区域(31)的两个相对侧面上。

6.根据权利要求5所述的线圈,其特征在于这些支腿(233,234,433,434)沿外周方向超出该顶部区域(232,432)而伸出。

7.根据权利要求5所述的线圈,其特征在于该加固插件(14,214)覆盖两个支腿(33,34,233,234),并沿绕组(12,212)的一个外匝的外周(13,213)从一个支腿延伸到另一个支腿(34,33,234,233)。

8.根据权利要求5所述的线圈,其特征在于每个支腿(434,433)在一侧被一个加固插件(414a,414b)覆盖,该加固插件沿该绕组(412)的一个前面和一个后面延伸。

9.根据权利要求8所述的线圈,其特征在于该加固插件穿过或啮合入一个绕组内面或一个绕线模件。

10.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于该加固插件(14,214,314a,314b,414a,414b)啮合在该顶部区域(32,232,432)与该底部区域(31,231,431)之间的至少一个凹陷(36,236,316a,316b,436)中。

11.根据权利要求5所述的线圈,其特征在于该连接片(30,230,430)在两个侧面(230a,230b)上都具有一个凹槽形式的凹陷(36,236,436),该加固插件(14,214,414a,414b)啮合在其中和/或以一种互锁方式锁入其中。

12.根据权利要求11所述的线圈,其特征在于该加固插件以一种互锁的方式被固定在、牢固地夹在或粘性结合在两个凹陷中。

13.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于该加固插件(14,214,414a,414b)是纤维增强的。

14.根据权利要求13所述的线圈,其特征在于该加固插件(14,214,414a,414b)是玻璃纤维增强的。

15.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于该塑料(20,120,220,320,420)的封装过程是通过真空浸渍来进行的。

16.根据权利要求1或2所述的线圈,其特征在于该塑料(20,120,220,320,420)是由一种树脂所组成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于特里托尔有限公司,未经特里托尔有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680040607.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top