[发明专利]光盘及其制造方法、压模、信号处理方法、信号处理装置、图像描绘方法、光盘记录装置、及光记录介质

权利要求书

1.一种光盘，该光盘包含：基板；形成在所述基板上，且能够利用 激光的照射进行可视图像的描绘的图像记录层，其特征在于，

在所述基板的所述图像记录层侧的表面形成有预刻凹坑，

所述预刻凹坑的平均深度h_p为100～400nm。

2.一种光盘，该光盘包含：基板；形成在所述基板上，且能够利用 激光的照射进行可视图像的描绘的图像记录层，其特征在于，

在所述基板的所述图像记录层侧的表面形成有预刻凹坑，

所述预刻凹坑的平均半幅值W为200～500nm。

3.一种光盘，该光盘包含：基板；形成在所述基板上，且能够利用 激光的照射进行可视图像的描绘的图像记录层，其特征在于，

在所述基板的所述图像记录层侧的表面形成有预刻凹坑，

所述预刻凹坑的凸部上的所述图像记录层的平均厚度(h₁)、和所述预 刻凹坑的凹部上的所述图像记录层的平均厚度(h₂)之比(h₁/h₂)为0.1～ 0.9，

所述预刻凹坑的凹部上的所述图像记录层的凹陷的深度(h_p+h₁-h₂)为 70～250nm。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光盘，其特征在于，

所述图像记录层含有色素化合物。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的光盘，其特征在于，

所述图像记录层是使用含有所述色素化合物的涂敷液，利用旋涂形成 的。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的光盘，其特征在于，

所述图像记录层是激光多次照射在大致相同的轨迹上，从而记录可视 信息的层，检测向所述预刻凹坑照射激光后的返回光，进行可视信息的记 录。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的光盘，其特征在于，

所述图像记录层是激光在光盘的半径方向上摆动且多次照射在大致 相同的轨迹上，从而记录可视信息的层，检测向所述预刻凹坑照射激光后 的返回光，进行可视信息的记录。

8.一种压模，该压模用于制作光盘的基板，其设置有用于形成预刻 凹坑的凹凸，其特征在于，

该光盘包含：基板；形成在所述基板上，且能够利用激光的照射进行 可视图像的描绘的图像记录层，

在所述基板的所述图像记录层侧的表面形成有预刻凹坑，

所述预刻凹坑的平均深度h_p为100～400nm。

9.一种光盘的制造方法，该制造方法包括：制作压模的步骤；使用 该压模，制作在形成图像记录层的一侧形成有预刻凹坑的基板的步骤；以 及在该基板上形成该图像记录层的步骤，其特征在于，

该压模是用于制作光盘的基板的压模，在该压模上设置有用于形成预 刻凹坑的凹凸，

该光盘包含：基板；形成在所述基板上，且能够利用激光的照射进行 可视图像的描绘的图像记录层，

在所述基板的所述图像记录层侧的表面形成有预刻凹坑，

所述预刻凹坑的平均深度h_p为100～400nm。

10.一种信号处理方法，该信号处理方法包括：向光盘的预刻凹坑区 域照射激光，读出预刻凹坑信号的步骤；使该预刻凹坑信号的极性反转的 步骤；以及对反转的预刻凹坑信号进行译码的步骤，其特征在于，

该光盘包含：基板；形成在所述基板上，且能够利用激光的照射进行 可视图像的描绘的图像记录层，

在所述基板的所述图像记录层侧的表面形成有预刻凹坑，

所述预刻凹坑的平均深度h_p为100～400nm。