[发明专利]杂环取代吡啶衍生物及含有该衍生物的抗真菌剂有效

专利信息
申请号: 200680040781.0 申请日: 2006-10-30
公开(公告)号: CN101300250A 公开(公告)日: 2008-11-05
发明(设计)人: 田中圭悟;井上谕;村井则夫;松仓正幸;中本和孝;白鸟修司;阿部信也 申请(专利权)人: 卫材R&D管理有限公司
主分类号: C07D401/04 分类号: C07D401/04;A61K31/4439;A61K31/444;A61P31/10;C07D401/14;C07D413/04;C07D413/14
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 取代 吡啶 衍生物 含有 真菌
【权利要求书】:

1.下式(I)表示的化合物或其盐:

式中,

R1表示氢原子、氨基、或C1-6烷氧基C1-6烷基;

R2表示氢原子、氨基、或二C1-6烷基氨基;

X及Y中的一个表示氮原子,另一个表示氮原子或氧原子;

环A表示可以具有1个或2个卤原子或C1-6烷基的吡啶环、苯环、呋 喃环、噻吩环、或吡咯环;

Z表示单键、亚甲基、1,2-亚乙基、氧原子、硫原子、-CH2O-、 -OCH2-、-NH-、-CH2NH-、-NHCH2-、-CH2S-或-SCH2-;

R3表示正丁基、环丙基、苯基、氟苯基、呋喃基、氯呋喃基、甲基 呋喃基、噻吩基、溴噻吩基、甲基噻吩基、吡啶基或甲基吡啶基;

R4表示氢原子或卤原子,

其中,Z为单键时,R1、R2及R4不同时为氢原子。

2.如权利要求1所述的化合物或其盐,其中,下式(I)表示的化 合物的下式(II)表示的部分结构为选自下式(III)~(VI)的部分结 构,

3.如权利要求1所述的化合物或其盐,其中,X及Y中的一个为氮原 子,另一个为氧原子。

4.如权利要求3所述的化合物或其盐,其中,下式(I)表示的化合 物的下式(II)表示的部分结构为下式(III)表示的部分结构或下式(IV) 表示的部分结构,

5.如权利要求1所述的化合物或其盐,其中,X及Y均为氮原子。

6.如权利要求5所述的化合物或其盐,其中,下式(I)表示的化 合物的下式(II)表示的部分结构为下式(V)表示的部分结构或下式 (VI)表示的部分结构,

7.如权利要求1或2所述的化合物或其盐,其中,R2为氨基。

8.如权利要求1或2所述的化合物或其盐,其中,R1为氨基,R2为 氢原子。

9.如权利要求1或2所述的化合物或其盐,其中,环A为吡啶环、苯 环、呋喃环、噻吩环或吡咯环。

10.如权利要求9所述的化合物或其盐,其中,环A为吡啶环或苯环。

11.如权利要求1或2所述的化合物或其盐,其中,Z为氧原子、- CH2O-或-OCH2-。

12.一种药物组合物,含有权利要求1或2所述的化合物或其盐。

13.一种药物,含有权利要求1或2所述的化合物或其盐。

14.一种抗真菌剂,含有权利要求1或2所述的化合物或其盐为有效 成分。

15.权利要求1或2所述的化合物或其盐在制备抗真菌剂中的应用。

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