[发明专利]用于去除光刻胶的稀释剂组合物无效
| 申请号： | 200680041062.0 | 申请日： | 2006-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101300529A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 朴熙珍;辛成健;尹锡壹;金柄郁 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光刻 稀释剂 组合 | ||
【权利要求书】：
1、一种用于去除光刻胶的稀释剂组合物，其包含二元醇醚化合物。
2、权利要求1所述的稀释剂组合物，该稀释剂组合物进一步包含作为表面活性剂的氟化丙烯酸共聚物、有机溶剂或其混合物。
3、权利要求1所述的稀释剂组合物，其中，所述二元醇醚化合物是选自由具有C1到C6烷基的烷二醇烷基醚组成的组中的至少之一。
4、权利要求2所述的稀释剂组合物，其中，所述氟化丙烯酸共聚物的重均分子量的范围为1,000到10,000。
5、权利要求2所述的稀释剂组合物，其中，所述有机溶剂是选自由N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺(DMAc)、甲基异丁基酮(MIBK)、γ-丁内酯(GBL)、乳酸乙酯(EL)、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲醚(PGME)和3-乙氧基丙酸乙酯(EEP)组成的组中的至少之一。
6、权利要求2所述的稀释剂组合物，每100重量份二元醇醚化合物，所述稀释剂组合物包含0.001到1重量份的氟化丙烯酸共聚物。
7、权利要求2所述的稀释剂组合物，每100重量份二元醇醚化合物，所述稀释剂组合物包含20到50重量份的有机溶剂。
8、权利要求2所述的稀释剂组合物，每100重量份二元醇醚化合物，所述稀释剂组合物包含0.001到1重量份的氟化丙烯酸共聚物和20到50重量份的有机溶剂。
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