[发明专利]用于汞控制系统的高能解离

权利要求书

1.一种用于控制燃料燃烧系统的气流中汞排放的设备，所述设备 包括：

解离卤素形成机构，用于由含卤素的材料生成解离卤素，所述解 离卤素包含原子卤素自由基；和

连接到该解离卤素形成机构的解离卤素供应机构，用于向气流供 应所述解离卤素。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述解离卤素形成机构包括：

具有卤素进口的高能室，所述卤素进口用于向所述高能室供应含 卤素的材料；和

加热机构，用于加热所述室以解离所述含卤素的材料。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述解离卤素形成机构还包括 用于向所述高能室供应载气的载气进口，所述载气用于将所述解离卤 素运送到气流。

4.如权利要求3所述的设备，还包括：

用于运送气流的主烟道，其中所述主烟道连接到所述燃料燃烧系 统；

主烟道中的空气预热器；和

在高能室和主烟道之间的通路，用于向主烟道提供所述解离卤素， 其中所述通路被连接到在燃料燃烧系统和空气预热器之间的主烟道。

5.如权利要求3所述的设备，还包括：

用于运送气流的主烟道，其中所述主烟道连接到燃料燃烧系统；

主烟道中的空气预热器；和

在高能室和主烟道之间的通路，用于向主烟道提供所述解离卤素， 其中所述通路被连接到空气预热器下游的主烟道。

6.如权利要求2所述的设备，其中解离卤素形成机构还包括向所 述高能室供应吸着剂的吸着剂进口。

7.如权利要求2所述的设备，还包括：连接到气流和吸着剂供应 机构的通路，其中高能室被连接到所述通路，以及吸着剂供应机构被 连接到高能室下游的所述通路。

8.如权利要求7所述的设备，还包括：

用于运送气流的主烟道，其中所述主烟道连接到燃料燃烧系统； 和

主烟道中的空气预热器；

其中所述通路被连接到主烟道，用于向主烟道提供解离卤素，且 其中所述通路被连接到在燃料燃烧系统和空气预热器之间的主烟道。

9.如权利要求8所述的设备，还包括位于空气预热器下游的吸着 剂床。

10.如权利要求8所述的设备，还包括位于空气预热器下游的污 染控制装置。

11.如权利要求7所述的设备，还包括：

用于运送气流的主烟道，其中所述主烟道连接到燃料燃烧系统； 和

主烟道中的空气预热器；

其中所述通路被连接到主烟道，用于向主烟道提供解离卤素，且 其中所述通路被连接到空气预热器下游的主烟道。

12.如权利要求11所述的设备，还包括位于空气预热器下游的污 染控制装置。

13.如权利要求11所述的设备，还包括位于空气预热器下游的吸 着剂床。

14.一种用于控制燃料燃烧系统的气流中汞排放的方法，所述方 法包括：

将卤素前体解离为包含原子卤素自由基的解离卤素；以及

在解离卤素注射点向气流供应所述解离卤素。

15.如权利要求14所述的方法，还包括：在高能室内解离卤素。

16.如权利要求15所述的方法，还包括：提供载气，其中所述载 气将所述解离卤素从高能室运送到气流。

17.如权利要求16所述的方法，其中包含解离卤素的载气在比气 流压力高的压力下被注射到气流中。

18.如权利要求16所述的方法，还包括：向气流供应吸着剂。

19.如权利要求18所述的方法，还包括：在解离卤素注射点的下 游提供吸着剂床。

20.如权利要求18所述的方法，还包括：提供连接到气流的通路； 以及通过所述通路向气流供应所述解离卤素和吸着剂。