[发明专利]用于基于多种形式的设计数据的图案生成的方法和系统

说明书

技术领域

本发明涉及图案生成的方法和系统，尤其涉及基于多种形式的设计数据的图案生成的方法和系统。

背景技术

平版印刷是将电路设计(或几何图案)写到掩模上的过程。相关技术的平版印刷(或写入)设备通过用激光或带电光束曝光保护层而将几何图案写到图版(plate)上。该曝光改变保护层的分子组成，并且在显影过程期间曝光的保护层被移除。在一些替代应用中，使用负保护层。在此情形，在显影过程期间非曝光的保护层被移除。 

光掩模(或掩模)是包含电子电路的微观图像的相对高精度的图版。光掩模从基底(如相对平坦的例如一侧上具有铬层的例如石英或玻璃片)制成。铬中蚀刻是电子电路设计的一部分。掩模上的该电路图案也被称作几何图案。 

在晶片制造和晶片写入器系统的相关技术方法中使用掩模来创建例如集成电路(IC)。IC在如计算机、计算器、汽车、摄像机、立体声等的产品中使用。掩模还在生产平板显示器、薄膜头、PC主板等中使用。 

在制造掩模的相关技术方法中，(例如由客户)设计电路图案，并且设计的图案信息被数字化。包含掩模设计的数字化的图案设计数据然后提供给掩模制造商。一个或多个图案设计数据层形成单个掩模，并且IC电路包括多个层(例如，对于相对高端的设计大约为40层)，然而，结果产生的电路的每层可以通过在晶片制造工艺中的单个掩模形成。数字化的图案设计数据可以经由因特网、专用线路等，在盘、磁带上提供给掩模制造商。 

掩模制造商将用于写入或图案生成系统的接收的数据格式化。格式化可包括例如分割数据、缩放数据、旋转数据、添加基点和内部参考标记、并且创建用于将所有不同的图案放置在掩模上的指令，也称作“工作平台(jobdeck)”。工作平台包括描述如何印刷掩模、使用什么图案文件、使用图案文件中的什么层、以及应用什么变换的指令。工作平台和包括在其中的信息在本领域众所周知，因此，为简明起见将省略详细的讨论。 

在分割数据的一个相关技术的方法中，图案设计数据被转换成写入系统理解的语言。例如，如果要写入的图案是多边形形状，但是相关技术的写入系统理解矩形和梯形，则设计图案数据被分割成矩形和梯形形状。具有分割 的数据的工作平台被存储在计算机可读介质(例如，盘、闪存、致密盘等)上并且发送到写入系统。写入系统然后使用格式化的设计图案，将图案印刷在基板上。 

在印刷期间，额外的图案处理发生。例如，几何图案可能在空间上重新组织以匹配写入工具的写入序列，并且导致要由曝光系统成像的像素。 

写入器系统对要印刷在基板上的图案具有相对少的理解。写入器系统被馈送有相对大量的要印刷的图元几何图案，但是图元几何图案不形成有意义的整体，直到掩模被完全写入。然而，设计的一些区域可能比其他区域更关键。例如，设计的一些部分可能具有更高的掩模错误增强因子(MEEF)，可能对印刷图案的关键尺寸(CD)具有更大的影响和/或可能对合适的区域覆盖更关键。关于设计的这些方面的相对重要性的信息可能在从写入系统上游的处理步骤中可用；然而，在相关技术的图案生成系统中，该信息没有使用并且随设计图案数据向下游传播并最终印刷在基板上而丢失。 

相关技术的平版印刷写入器系统具有有限分辨率。因为图案的顶角表示无限空间频率，所以折衷(compromise)了设计图案数据到基板上的复制，例如，图案的顶角变为圆形。通过添加或减少顶角中的或与顶角紧接区域的能量，可以改进锐度。然而，写入器系统被提供有作为更复杂的形状的一部分的分割的数据(图元几何图案)、以及各图元几何图案之间的关系，并且当组合时其形成的形状在分割期间丢失，因此不能传送给写入器系统。 

此外，在基于光栅的系统中，因为图像表示是矢量数据的逼近，所以关于图案的顶角的信息不可用。利用仅仅光栅图案作为输入，图案的顶角必须使用高级搜索算法重新创建。然而，在此情形，搜索相对困难和复杂，因为光栅图像具有比矢量数据更低的分辨率。 

发明内容

示例实施例通过传播修正的设计数据信息到写入系统，提供掩模增加的保真度和/或改进的计算机处理能力的聚焦。示例实施例可改进掩模上的图案复制。 

将顶角元数据与图像组合可以提供改进的顶角精度。例如，元数据可以精确定位各顶角精确的或更精确的位置和/或控制方向和放大顶角增强功能。 

示例实施例可通过区分真假顶角并知道其位置、角度和朝向，具有改进 的保真度和/或能够将计算能力聚集到更关键的区域。